[發(fā)明專利]一種超薄遮光膠帶及制備方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202111671009.1 | 申請日： | 2021-12-31 |
| 公開（公告）號： | CN114133889B | 公開（公告）日： | 2022-09-30 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 宋二華 | 申請（專利權(quán)）人： | 佳普電子新材料（連云港）有限公司 |
| 主分類號： | C09J7/29 | 分類號： | C09J7/29;C09J7/40 |
| 代理公司： | 北京匯捷知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11531 | 代理人： | 霍從芳 |
| 地址： | 222000 江蘇省連云*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 超薄 遮光 膠帶 制備 方法 | ||
1.一種超薄遮光膠帶，包括基材，所述基材上下兩側(cè)依次設(shè)有膠水層和離型層，其特征在于：所述基材上側(cè)或/和下側(cè)設(shè)有組合層，所述組合層位于基材與膠水層之間；
所述組合層包括位于基材上的非金屬層，所述非金屬層上設(shè)有金屬遮光層；
所述非金屬層厚度為200～500nm且材質(zhì)為氮化硅或氧化硅，所述金屬遮光層厚度為100nm～500nm且材質(zhì)為Mo、Al或AlNd中的一種；
所述超薄遮光膠帶制備方法包括如下步驟：
步驟一、選取基材并對基材表面清洗處理；
步驟二、對清洗后的基材上側(cè)通過CVD工藝沉積處理，形成氮化硅或氧化硅材質(zhì)的非金屬層；
步驟三、對步驟二中的非金屬層表面物理濺射Mo、Al或AlNd，形成金屬遮光層；
步驟四、利用激光在步驟三中的金屬遮光層表面刻蝕對位標(biāo)識和防溢膠結(jié)構(gòu)；
步驟五、對步驟四中的基材下側(cè)、金屬遮光層表面涂布膠層，待膠層固化后，形成膠水層；
步驟六、對步驟五中的膠水層復(fù)合離型層，完成超薄遮光膠帶制作。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的遮光膠帶，其特征在于：所述金屬遮光層透光率為0％。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的遮光膠帶，其特征在于：所述基材厚度為1～5um且材質(zhì)為PET或PI。
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