[發明專利]打印墨水及噴墨打印方法在審
| 申請號： | 202111645239.0 | 申請日： | 2021-12-30 |
| 公開（公告）號： | CN114395290A | 公開（公告）日： | 2022-04-26 |
| 發明（設計）人： | 苗洋 | 申請（專利權）人： | 深圳市華星光電半導體顯示技術有限公司 |
| 主分類號： | C09D11/38 | 分類號： | C09D11/38;H01L51/56 |
| 代理公司： | 深圳紫藤知識產權代理有限公司 44570 | 代理人： | 何志軍 |
| 地址： | 518132 廣東省深*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 打印 墨水 噴墨 方法 | ||
1.一種打印墨水，其特征在于，所述打印墨水包括添加劑，所述添加劑的結構式為：
CH3(CH2)aCHR1(CH2)bR2；
其中，R1和R2均為用于形成分子間氫鍵的極性基團，a、b均為正整數。
2.如權利要求1所述的打印墨水，其特征在于，R1為羧基、羥基、酰基以及酰胺基中的一種，R2為羥基、羧基以及氨基中的一種。
3.如權利要求1所述的打印墨水，其特征在于，a大于或等于3，b大于或等于8。
4.如權利要求1所述的打印墨水，其特征在于，所述打印墨水還包括溶質，所述添加劑在所述打印墨水中的質量分數與所述溶質在所述打印墨水中的質量分數的比值小于或等于5％。
5.一種噴墨打印方法，其特征在于，所述噴墨打印方法包括：
將添加劑添加至打印墨水中，并對所述打印墨水持續進行加熱；
提供基板，所述基板上設置有多個像素開口，將所述打印墨水噴涂至所述像素開口內；以及
對所述像素開口內的所述打印墨水進行真空干燥以及烘烤，形成薄膜；
其中，所述添加劑的結構式為：
CH3(CH2)aCHR1(CH2)bR2；
其中，R1和R2均為用于形成分子間氫鍵的極性基團，a、b均為正整數。
6.如權利要求5所述的噴墨打印方法，其特征在于，所述噴墨打印方法用于制備形成空穴注入層、空穴傳輸層、發光層、電子傳輸層中的至少一個。
7.如權利要求5所述的噴墨打印方法，其特征在于，R1為羧基、羥基、酰基以及酰胺基中的一種，R2為羥基、羧基以及氨基中的一種；
a大于或等于3，b大于或等于8。
8.如權利要求5所述的噴墨打印方法，其特征在于，所述打印墨水還包括溶質，所述添加劑在所述打印墨水中的質量分數與所述溶質在所述打印墨水中的質量分數的比值小于或等于5％。
9.如權利要求5所述的噴墨打印方法，其特征在于，所述將添加劑添加至打印墨水中，并對所述打印墨水進行加熱的步驟中，加熱所述打印墨水的溫度大于或等于70℃且小于或等于90℃。
10.如權利要求5所述的噴墨打印方法，其特征在于，所述對所述像素開口內的所述打印墨水進行真空干燥以及烘烤，形成薄膜的步驟包括：
在真空干燥的過程中，逐漸降低烘烤所述打印墨水的溫度，并將所述打印墨水中的溶劑抽離。
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