[發明專利]濾光片及其形成方法

在審

• 申請號: 202111643959.3
• 申請日: 2021-12-29
• 公開（公告）號: CN116413942A
• 公開（公告）日: 2023-07-11
• 發明（設計）人: 李欣;范剛洪;徐廣軍;唐文靜
• 申請（專利權）人: 上海儀電顯示材料有限公司;昆山儀電顯示材料有限公司
• 主分類號: G02F1/1335
• 分類號: G02F1/1335;G02F1/1339;G02B5/20
• 代理公司: 北京集佳知識產權代理有限公司 11227
• 代理人: 田施雨;張鳳偉

1.一種濾光片，其特征在于，包括：

基底，包括第一區和第二區，所述第一區上具有基臺層；

濾色層，位于所述基底以及所述基臺層上；

保護層，位于所述濾色層上；

第一間隔柱，位于所述第一區的所述保護層上；

第二間隔柱，位于所述第二區的所述保護層上，所述第一間隔柱的高度和所述第二間隔柱的高度非相等。

2.如權利要求1所述的濾光片，其特征在于，所述基臺層的寬度尺寸大于所述第一間隔柱的底部直徑尺寸，所述基臺層的寬度所在的直線與所述第一間隔柱的底部直徑所在的直線平行。

3.如權利要求1所述的濾光片，其特征在于，所述基臺層為R像素層或G像素層或B像素層。

4.如權利要求3所述的濾光片，其特征在于，所述濾色層由R子像素層、G子像素層及B子像素層組成，所述B子像素層覆蓋所述基臺層上。

5.如權利要求1所述的濾光片，其特征在于，所述第一間隔柱的頂部表面與所述第二間隔柱的頂部表面的高度差為0.45微米至0.8微米。

6.如權利要求1所述的濾光片，其特征在于，所述保護層的厚度為1微米至2.5微米。

7.一種濾光片的形成方法，其特征在于，包括：

提供基底，所述基底包括第一區和第二區；

在所述第一區的基底上形成基臺層；

在所述基底和所述基臺層上形成濾色層；

在所述濾色層上形成保護層；

在所述保護層上形成第一間隔柱和第二間隔柱，所述第一間隔柱位于所述第一區的所述保護層上，所述第二間隔層位于所述第二區的所述保護層上，所述第一間隔柱的高度和所述第二間隔柱的高度非相等。

8.如權利要求7所述的濾光片的形成方法，其特征在于，所述基臺層的寬度尺寸大于所述第一間隔柱的底部直徑尺寸，所述基臺層的寬度所在的直線與所述第一間隔柱的底部直徑所在的直線平行。

9.如權利要求7所述的濾光片的形成方法，其特征在于，所述基臺層為R像素層或G像素層或B像素層。

10.如權利要求7所述的濾光片的形成方法，其特征在于，所述濾色層由R子像素層、G子像素層及B子像素層組成，所述B子像素層覆蓋所述基臺層。

11.如權利要求7所述的濾光片的形成方法，其特征在于，所述第一間隔柱的頂部表面與所述第二間隔柱的頂部表面的高度差為0.45微米至0.8微米。

12.如權利要求7所述的濾光片的形成方法，其特征在于，所述保護層的厚度為1微米至2.5微米。

13.如權利要求7所述的濾光片的形成方法，其特征在于，形成所述保護層的工藝參數包括烘烤溫度為200度至250度，烘烤時間為30分鐘至60分鐘。