[發明專利]一種靜態漏率測量裝置及方法

在審

• 申請號: 202111607172.1
• 申請日: 2021-12-25
• 公開（公告）號: CN114674501A
• 公開（公告）日: 2022-06-28
• 發明（設計）人: 趙瀾;成永軍;孫雯君;陳聯;董猛;丁棟;張瑞芳;管保國
• 申請（專利權）人: 蘭州空間技術物理研究所
• 主分類號: G01M3/20
• 分類號: G01M3/20
• 代理公司: 北京元理果知識產權代理事務所(普通合伙) 11938
• 代理人: 饒小平

本申請涉及測量技術領域，具體而言，涉及一種靜態漏率測量裝置及方法，所述裝置包括標準漏孔、集氣系統、供氣系統、非蒸散性吸氣劑泵以及真空泵，其中：待測件設置在集氣系統內部，標準漏孔與集氣系統連接；供氣系統與待測件連接；非蒸散性吸氣劑泵與集氣系統連接；真空泵分別與集氣系統和待測件連接。本申請簡單易行，成本低，能夠用于不同量級、多種示漏氣體的待測件校準，延伸了漏率測量范圍，可實現同步對多臺待測件進行測量，提高了測量效率，還實現了對不同形狀、不同尺寸的待測件的總漏率的測量以及對待測件整體密封性能的評價，保證了待測件的可靠性。

技術領域

本申請涉及測量技術領域，具體而言，涉及一種靜態漏率測量裝置及方法。

背景技術

在文獻“基于分子流傳感元件的真空腔體漏率測量方法”，《真空科學與技術學報》，2021年第2期，第139頁～144頁”中，介紹了本文介紹了一種基于分子流傳感元件的真空腔體漏率測量方法，該方法在基于流經傳感元件的氣流處于分子流狀態下，通過測量傳感元件兩端的差壓，計算質量流量，得到真空腔體的整體漏率。該文獻中使用的測量裝置復雜，測量裝置需要由氣體流量測量系統、真空抽氣系統、恒溫系統等部分組成，需要滿足流經傳感元件的氣流處于分子流狀態，造成流感元件的機械加工難度大；測量過程中，還需要恒溫設備，保證整個過程溫度保持不變，其造價較高、恒溫難度大；測量裝置整體技術含量高、價格昂貴，對研究人員及操作人員要求較高。其次，采用基于分子流傳感元件的真空腔體漏率測量方法測量待測件，僅能漏率較大的待測件，同時測量范圍窄。第三，該測量裝置僅可實現同步對一臺待測件進行測量，測量效率較低。

發明內容

本申請的主要目的在于提供一種靜態漏率測量裝置及方法，能夠實現對待測件真空漏率進行測量，并且測量范圍較寬、滿足多種示漏氣體的測量。

為了實現上述目的，本申請提供了一種靜態漏率測量裝置，包括標準漏孔、集氣系統、供氣系統、非蒸散性吸氣劑泵以及真空泵，其中：待測件設置在集氣系統內部，標準漏孔與集氣系統連接；供氣系統與待測件連接；非蒸散性吸氣劑泵與集氣系統連接；真空泵分別與集氣系統和待測件連接。

進一步的，標準漏孔與集氣系統之間的管路上設置有第一截止閥。

進一步的，供氣系統與待測件之間的管路上設置有第二截止閥。

進一步的，還包括第一壓力計和第二壓力計，第一壓力計設置在第二截止閥與待測件之間，第二壓力計與集氣系統連接。

進一步的，還包括質譜儀，質譜儀與集氣系統連接。

進一步的，真空泵包括第一真空泵和第二真空泵，其中：第一真空泵通過第三截止閥與集氣系統連接；第一真空泵與第二真空泵之間設置有三通閥；第二真空泵通過三通閥以及第四截止閥與待測件連接。

進一步的，非蒸散性吸氣劑泵與集氣系統之間的管路上設置有第五截止閥。

進一步的，標準漏孔與待測件的漏率相同或相近。

進一步的，集氣系統管路的漏率小于待測件漏率的1％。