[發明專利]具有多個金屬層的陣列垂直腔表面發射激光器

在審

• 申請號: 202111596138.9
• 申請日: 2018-10-10
• 公開（公告）號: CN114421282A
• 公開（公告）日: 2022-04-29
• 發明（設計）人: E.R.黑格布洛姆
• 申請（專利權）人: 朗美通經營有限責任公司
• 主分類號: H01S5/183
• 分類號: H01S5/183
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所 11105
• 代理人: 賀紫秋

1.一種光學裝置，包括：

垂直腔表面發射激光器(VCSEL)的陣列，

每一個VCSEL具有發射區域；

第一金屬層，基本上覆蓋該陣列，

第一金屬層包括用于每一個發射區域的開口，且

第一金屬層連接到所述陣列的第一組發射器；

第二金屬層，基本上覆蓋第一金屬層，

第二金屬層連接到所述陣列的第二組發射器，

其中所述第二組不包括第一組中的發射器；和

在第一金屬層和第二金屬層之間的電絕緣層，

該電絕緣層包括用于將第一金屬層的一些部分與第二金屬層的一些部分電連接的過孔。

2.如權利要求1所述的光學裝置，其中所述第一金屬層將所述第一組連接到第一陽極，并且所述第二金屬層將所述第二組連接到第二陽極。

3.如權利要求1所述的光學裝置，進一步包括:

第三金屬層，基本上覆蓋第二金屬層，

該第三金屬層連接到陣列的第三組發射器，

其中第三組不包括第一組中的發射器或第二組中的發射器。

4.如權利要求3所述的光學裝置，其中所述第三金屬層將所述第三組連接到第三陽極。

5.如權利要求3所述的光學裝置，其中所述電絕緣層是第一電絕緣層，并且所述過孔是第一過孔；和

其中所述光學裝置還包括:

在第二金屬層和第三金屬層之間的第二電絕緣層，

該第二電絕緣層包括用于將第二金屬層的一些部分和第三金屬層的一些部分電連接的第二過孔。

6.如權利要求5所述的光學裝置，其中所述第二電絕緣層不形成在所述第三組發射器上。

7.如權利要求5所述的光學裝置，其中所述第一組發射器通過所述第一過孔和所述第二過孔連接到陽極。

8.如權利要求5所述的光學裝置，其中所述第二組發射器通過所述第一過孔和所述第二過孔連接到陽極。

9.如權利要求5所述的光學裝置，其中所述第三組發射器通過所述第一過孔和所述第二過孔連接到陽極。

10.如權利要求1所述的光學裝置，進一步包括:

陣列的背側層在每個發射區域上方包括抗反射涂層。

11.一種發射器陣列，包括：

發射器陣列，包括一組發射器，

其中所述一組發射器中的每一個具有相應發射區域；

第一金屬層，

其中第一金屬層基本上覆蓋發射器陣列，

其中第一金屬層包括用于每一個發射區域的開口，且

其中第一金屬層連接到所述一組發射器中的第一發射器；

第二金屬層，

其中第二金屬層基本上覆蓋第一金屬層，且

其中第二金屬層連接到所述一組發射器中的第二發射器；

其中所述第二發射器不包括第一發射器；和

電絕緣層，

其中電絕緣層在第一金屬層和第二金屬層之間，且

其中電絕緣層包括用于將第一金屬層的一部分與第二金屬層的一部分電連接的過孔。

12.如權利要求11所述的發射器陣列，其中所述第一金屬層將所述第一發射器連接到第一陽極，并且所述第二金屬層將所述第二發射器連接到第二陽極。

13.如權利要求11所述的發射器陣列，其中所述第一金屬層不存在于所述第二發射器的接觸層上方。

14.如權利要求13所述的發射器陣列，其中所述第二金屬層接觸所述第二發射器的接觸層。