[發(fā)明專利]一種重?fù)搅壮妥韫鑶尉У闹苽浞椒?/span>有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202111594443.4 | 申請日： | 2021-12-23 |
| 公開（公告）號： | CN114318508B | 公開（公告）日： | 2023-10-24 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 王萬華;李英濤;王凱磊;皮小爭;方峰;崔彬 | 申請（專利權(quán)）人： | 山東有研半導(dǎo)體材料有限公司;有研半導(dǎo)體硅材料股份公司 |
| 主分類號： | C30B15/20 | 分類號： | C30B15/20;C30B29/06 |
| 代理公司： | 北京北新智誠知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11100 | 代理人： | 劉秀青 |
| 地址： | 253012 山東省德州市經(jīng)濟(jì)技術(shù)開發(fā)區(qū)袁橋*** | 國省代碼： | 山東;37 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 重?fù)搅壮妥韫鑶尉?/a> 制備 方法 | ||
1.一種重?fù)搅壮妥韫鑶尉У闹苽浞椒ǎ涮卣髟谟冢诘葟焦ば蛑校捎玫墓に嚍椋?/p>
(1)等徑前期，爐室壓力由70-90Torr升到180-220Torr；
(2)等徑中期，爐室壓力維持在等徑前期升至的高壓不變；
(3)等徑后期，爐室壓力由所述高壓降到120-150Torr；
在整個(gè)等徑過程中，晶體拉速以每毫米等徑長度下降0.01-0.2mm/hr的速度下降。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的重?fù)搅壮妥韫鑶尉У闹苽浞椒ǎ涮卣髟谟冢谡麄€(gè)等徑過程中，晶體拉速由55-60mm/hr降至20-25mm/hr。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的重?fù)搅壮妥韫鑶尉У闹苽浞椒ǎ涮卣髟谟冢龅葟角捌跒榈葟介L度為0-100mm的階段；所述等徑中期為等徑長度為100-800mm的階段；所述等徑后期為等徑長度為800-1600mm的階段。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的重?fù)搅壮妥韫鑶尉У闹苽浞椒ǎ涮卣髟谟冢谒龅葟角捌冢瑺t室壓力以每毫米等徑長度升高0.5-2Torr的速度上升。
5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的重?fù)搅壮妥韫鑶尉У闹苽浞椒ǎ涮卣髟谟冢谒龅葟胶笃冢瑺t室壓力以每毫米等徑長度下降0.05-0.1Torr的速度下降。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息，商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于山東有研半導(dǎo)體材料有限公司;有研半導(dǎo)體硅材料股份公司，未經(jīng)山東有研半導(dǎo)體材料有限公司;有研半導(dǎo)體硅材料股份公司許可，擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作，請聯(lián)系【客服】
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