[發明專利]一種凹面鏡制造方法、凹面鏡以及合分波器在審
| 申請號： | 202111591230.6 | 申請日： | 2021-12-23 |
| 公開（公告）號： | CN114355492A | 公開（公告）日： | 2022-04-15 |
| 發明（設計）人： | 劉權 | 申請（專利權）人： | 蘇州伽藍致遠電子科技股份有限公司 |
| 主分類號： | G02B5/10 | 分類號： | G02B5/10;G02B5/08;G02B27/09;G02B27/10 |
| 代理公司： | 北京遠大卓悅知識產權代理有限公司 11369 | 代理人： | 韓玲 |
| 地址： | 215000 江蘇*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 凹面鏡 制造 方法 以及 合分波器 | ||
1.一種凹面鏡制造方法，其特征在于，包括以下步驟：
鍍膜：在本體兩側分別鍍制高反膜以及應力膜，所述應力膜的厚度大于所述高反膜的厚度；
形變：應力膜的應力使所述本體彎曲，所述本體鍍有應力膜一側由于壓應力形成凸面，所述本體鍍有高反膜一側由于形變形成凹面。
2.根據權利要求1所述的凹面鏡制造方法，其特征在于：還包括分割步驟，所述分割步驟位于所述形變步驟之后，所述分割步驟具體為：對鍍有所述高反膜以及所述應力膜的本體進行分割，形成若干小型凹面鏡。
3.根據權利要求1所述的凹面鏡制造方法，其特征在于：所述應力膜的厚度是所述高反膜厚度的3倍以上。
4.根據權利要求3所述的凹面鏡制造方法，其特征在于：所述應力膜的厚度是所述高反膜厚度的5-6倍。
5.根據權利要求1所述的凹面鏡制造方法，其特征在于：所述應力膜為介質膜。
6.一種凹面鏡，其特征在于：根據權利要求1-5任意一項所述的凹面鏡制造方法制造，所述凹面鏡包括本體、高反膜以及應力膜，所述高反膜以及所述應力膜分別鍍制在所述本體兩側，所述應力膜的厚度大于所述高反膜的厚度，所述本體鍍有所述應力膜一側由于壓應力形成凸面，所述本體鍍有高反膜一側由于形變形成凹面。
7.根據權利要求6所述的凹面鏡，其特征在于：所述應力膜的厚度是所述高反膜厚度的3倍以上。
8.根據權利要求6所述的凹面鏡，其特征在于：所述應力膜為介質膜。
9.一種合分波器，包括主體，所述主體一側鍍有增透膜以及高反膜，所述主體另一側設有若干濾光片，其特征在于：所述合分波器還包括如權利要求6所述的凹面鏡，所述凹面鏡位于若干所述濾光片之間對光束進行反射以及整形。
10.根據權利要求9所述的合分波器，其特征在于：所述凹面鏡朝向所述主體一側還設有增透膜。
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