[發明專利]一種增減材設備的坐標校正方法及增減材設備

在審

• 申請號: 202111574514.4
• 申請日: 2021-12-21
• 公開（公告）號: CN116358472A
• 公開（公告）日: 2023-06-30
• 發明（設計）人: 胡偉;歐陽征定;劉旭飛;周桂兵;胡瑞;陳焱;高云峰
• 申請（專利權）人: 大族激光科技產業集團股份有限公司;深圳市大族和光科技有限公司
• 主分類號: G01B21/04
• 分類號: G01B21/04;B23C3/00
• 代理公司: 深圳市世聯合知識產權代理有限公司 44385
• 代理人: 汪琳琳

1.一種增減材設備的坐標校正方法，其特征在于，該方法包括如下步驟：

基于增材坐標系，在設備加工平面成型待減材零件；

探測待減材零件在減材坐標系中坐標，根據待減材零件在減材坐標系中的坐標，計算得到減材坐標系與增材坐標系的角度偏差以及距離偏差；

根據距離偏差對減材坐標系進行偏置，根據角度偏差對減材坐標進行旋轉。

2.根據權利要求1所述的增減材設備的坐標校正方法，其特征在于，所述距離偏差，為減材坐標系的原點與增材坐標系的原點之間的位置偏差。

3.根據權利要求2所述的增減材設備的坐標校正方法，其特征在于，所述待減材零件包括第一輪廓邊和第二輪廓邊，所述第一輪廓邊和所述第二輪廓邊相交且均為直邊；

所述根據待減材零件在減材坐標系中坐標計算得到減材坐標系與增材坐標系的角度偏差以及距離偏差的步驟，具體包括：

探測第一輪廓邊上的至少兩個點在減材坐標系中的坐標；

探測第二輪廓邊上的至少兩個點在減材坐標系中的坐標；

根據第一輪廓邊上的至少兩個點在減材坐標系中的坐標和第二輪廓邊上的至少兩個點在減材坐標系中的坐標，計算得到第一輪廓邊與第二輪廓邊的交點在減材坐標系中的坐標；

根據第一輪廓邊與第二輪廓邊的交點在減材坐標系中的坐標，與第一輪廓邊與第二輪廓邊的交點在增材坐標系中的坐標，計算得到增材坐標系的原點在減材坐標系中的坐標。

4.根據權利要求3所述的增減材設備的坐標校正方法，其特征在于，所述第一輪廓邊上的至少兩個點在減材坐標系中的坐標的步驟，具體包括：

觸碰探測頭向靠近第一輪廓邊方向移動，當觸碰探測頭接觸到第一輪廓邊時，將觸碰探測頭發生觸碰的當前位置點記錄為第一輪廓邊上的第一個點D1，并記錄D1點在減材坐標系中的坐標為D1(x_減D1，y_減D1)，觸碰探測頭遠離第一輪廓邊；

觸碰探測頭按預設軌跡移動一定距離后，觸碰探測頭再次向靠近第一輪廓邊方向移動，當觸碰探測頭接觸到第一輪廓邊時，將觸碰探測頭發生觸碰的當前位置點記錄為第一輪廓邊上的第二個點D2，并記錄D2點在減材坐標系中的坐標為D2(x_減D2，y_減D2)，觸碰探測頭遠離第一輪廓邊。

5.根據權利要求4所述的增減材設備的坐標校正方法，其特征在于，所述探測第二輪廓邊上的至少兩個點在減材坐標系中的坐標，具體包括：

觸碰探測頭向靠近第二輪廓邊方向移動，當觸碰探測頭接觸到第二輪廓邊時，將觸碰探測頭發生觸碰的當前位置點記錄為第二輪廓邊上的第一個點D3，并記錄D3點在減材坐標系中的坐標為D3(x_減D3，y_減D3)，觸碰探測頭遠離第二輪廓邊；

觸碰探測頭按預設軌跡移動一定距離后，觸碰探測頭再次向靠近第二輪廓邊方向移動，當觸碰探測頭接觸到第二輪廓邊時，將觸碰探測頭發生觸碰的當前位置點記錄為第二輪廓邊上的第二個點D4，并記錄D4點在減材坐標系中的坐標為D4(x_減D4，y_減D4)，觸碰探測頭遠離第一輪廓邊。