[發明專利]一種表面具有紋理的搪瓷板及制備方法

在審

• 申請號: 202111571278.0
• 申請日: 2021-12-21
• 公開（公告）號: CN114231981A
• 公開（公告）日: 2022-03-25
• 發明（設計）人: 張軍;曹益亭;邢翰學;應洋洋;傅昂亭;葉盛
• 申請（專利權）人: 浙江開爾新材料股份有限公司
• 主分類號: C23D5/02
• 分類號: C23D5/02;C23D9/00
• 代理公司: 浙江千克知識產權代理有限公司 33246
• 代理人: 王豐毅

1.一種表面具有紋理的搪瓷板，其特征在于：包括鋼板以及涂覆于鋼板表面的底釉層，所述底釉層表面設有面釉層，面釉層具有不規則紋理。

2.如權利要求1所述的一種表面具有紋理的搪瓷板，其特征在于：

所述底釉層的厚度為80μm至150μm。

3.如權利要求1所述的一種表面具有紋理的搪瓷板，其特征在于：所述面釉層線膨脹系數范圍為100×10^-7/K至140×10^-7/K；噴涂厚度為100μm至150μm。

4.一種如權利要求1至3任一項所述搪瓷板的制備方法，其特征在于：包括以下步驟：

步驟一、將瓷釉施于鋼板上表面，形成底釉層；

步驟二、底釉層上噴涂面釉層，烘干以第一溫度燒制；

步驟三、經過步驟二的面釉層噴涂紋理形成釉層，烘干，以第二溫度燒制；燒成后冷卻至室溫；

其中，第一溫度高于第二溫度，面釉層的線膨脹系數小于紋理形成釉層的線膨脹系數；

隨著溫度逐漸降低，紋理形成釉層冷卻至室溫，紋理形成釉層剝落并帶走與之粘連的部分面釉層，面釉層表面形成不規則紋理。

5.如權利要求4所述的制備方法，其特征在于：

面釉層的線膨脹系數范圍為100×10^-7/K至140×10^-7/K；

紋理形成釉層的線膨脹系數范圍為200×10^-7/K至260×10^-7/K。

6.如權利要求4所述的制備方法，其特征在于：

步驟一燒成的第一溫度是為800℃至840℃，燒成時間為4min至5min。

7.如權利要求4所述的制備方法，其特征在于：

步驟三燒成的第二溫度為550℃至650℃，燒成時間為4min至6min。

8.如權利要求4所述的制備方法，其特征在于：面釉層的噴涂厚度為150μm至250μm；紋理形成釉層的厚度為60μm至150微米。

9.如權利要求4所述的制備方法，其特征在于：步驟三冷卻至室溫的過程中利用氣流加速降溫。

10.如權利要求4所述的制備方法，其特征在于：所述鋼板為BT1C低碳鋼；底釉層的燒結為830℃至860℃，時間為4min至6min;底釉層厚度為80μm至150μm；冷卻后施加面釉層。