[發(fā)明專利]自蝕刻銅面鍵合劑及其制備方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202111561232.0
• 申請日: 2021-12-20
• 公開（公告）號: CN114231982B
• 公開（公告）日: 2023-07-18
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 王立中;陳修寧;李晨慶;黃志齊;王淑萍;黃京華
• 申請（專利權(quán)）人: 昆山市板明電子科技有限公司
• 主分類號: C23F1/02
• 分類號: C23F1/02;C23F1/18;H05K3/38;H05K3/06
• 代理公司: 江蘇海聯(lián)海律師事務(wù)所 32531
• 代理人: 倪章勇

1.一種自蝕刻銅面鍵合劑，其特征在于，包括如下成分：2-20?g/L氧化劑、1-5?g/?L含氮雜環(huán)共聚物、2-10g/L含羥基溶劑、5-60?g/?L有機(jī)酸和余量去離子水；

其中所述氧化劑為氯化銅；

其中所述含氮雜環(huán)共聚物為由含氮雜環(huán)類單體、烷基丙烯酸酯類單體和親水性單體按質(zhì)量比為(20～90):(5～50):(5～15)經(jīng)自由基共聚制備所得的聚合物；

其中所述含羥基溶劑為醇類化合物和醇醚類化合物中的至少一種；

其中所述有機(jī)酸為有機(jī)羧酸。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的自蝕刻銅面鍵合劑，其特征在于：所述含氮雜環(huán)類單體為1-乙烯基咪唑、1-烯丙基咪唑、1-乙烯基-1?,2?,4-三唑、4-甲基-5-乙烯基噻唑和2?,4-二甲基-5-乙烯基噻唑中的至少一種；所述烷基丙烯酸酯類單體為丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸甲酯、丙烯酸羥乙酯、甲基丙烯酸羥乙酯、丙烯酸羥丙酯和4-羥基丁基丙烯酸酯中的至少一種；所述親水性單體為丙烯酰胺、N-羥甲基丙烯酰胺和甲基丙烯酰二甲氨基乙酯中的至少一種。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的自蝕刻銅面鍵合劑，其特征在于：所述含羥基溶劑為乙醇、異丙醇、乙二醇、一縮二乙二醇、二縮三乙二醇、乙二醇甲醚和乙二醇丁醚中的至少一種。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的自蝕刻銅面鍵合劑，其特征在于：所述有機(jī)羧酸為甲酸、乙酸、乙二酸、羥基乙酸、2-羥基丁二酸和3-羥基-1?,3?,5-戊三酸中的至少一種。

5.一種權(quán)利要求1至4中任一權(quán)利要求所述自蝕刻銅面鍵合劑的制備方法，其特征在于，主要包括下述步驟：

S1，稱取配方量的氧化劑并將該氧化劑溶解在適量去離子水中，攪拌均勻并冷卻至室溫，得溶液一；

S2，稱取配方量的含氮雜環(huán)共聚物、有機(jī)酸和含羥基溶劑，并按上述順序逐一加入溶液一中，邊加邊進(jìn)行充分?jǐn)嚢柚辆鶆蚝蟮玫饺芤憾?/p>

S3，將剩余去離子水加入到溶液二中，攪拌均勻得到自蝕刻銅面鍵合劑。