[發明專利]一種電感耦合線圈、射頻提供裝置、射頻控制方法、設備

在審

• 申請號: 202111556207.3
• 申請日: 2021-12-17
• 公開（公告）號: CN116344305A
• 公開（公告）日: 2023-06-27
• 發明（設計）人: 劉海洋;劉小波;陳帥;郭頌;王鋮熠;張霄;胡冬冬;許開東
• 申請（專利權）人: 江蘇魯汶儀器股份有限公司
• 主分類號: H01J37/305
• 分類號: H01J37/305;H01J37/32
• 代理公司: 北京集佳知識產權代理有限公司 11227
• 代理人: 柳虹

1.一種電感耦合線圈，其特征在于，包括：

內線圈、包圍所述內線圈的中線圈、包圍所述中線圈的外線圈、第一可調電容；

所述內線圈和所述中線圈串聯在第一通路中；所述第一通路的第一端用于連接射頻功率源，第二端用于連接接地端；所述中線圈和第一可調電容并聯；

所述外線圈位于第二通路中；所述第二通路的第一端用于連接射頻功率源，第二端用于連接接地端。

2.根據權利要求1所述的電感耦合線圈，其特征在于，還包括：

所述第一通路中與所述內線圈和所述中線圈串聯的第二可調電容，以及所述第二通路中與所述外線圈串聯的第三可調電容。

3.根據權利要求1所述的電感耦合線圈，其特征在于，還包括：

所述第一通路中與所述內線圈和所述中線圈串聯的第一電流互感器，以及所述第二通路中與所述外線圈串聯的第二電流互感器。

4.根據權利要求1-3任一項所述的電感耦合線圈，其特征在于，還包括：

所述第一通路中與所述內線圈和所述中線圈串聯的第一接地電容，以及所述第二通路中與所述外線圈串聯的第二接地電容。

5.根據權利要求1-3任一項所述的電感耦合線圈，其特征在于，還包括：

所述第一通路中與所述內線圈和所述中線圈串聯的第一附加線圈，所述第一附加線圈包圍所述內線圈且被所述中線圈包圍，或所述第一附加線圈包圍所述中線圈且被所述外線圈包圍。

6.根據權利要求1-3任一項所述的電感耦合線圈，其特征在于，還包括：

所述第一通路中與所述中線圈并聯的第二附加線圈，所述第二附加線圈包圍所述內線圈且被所述中線圈包圍，或所述第二附加線圈包圍所述中線圈且被所述外線圈包圍。

7.一種射頻提供裝置，其特征在于，包括：

如權利要求1-6任一項所述的電感耦合線圈；

射頻功率源，用于為所述第一通路的第一端和所述第二通路的第一端提供射頻信號；

接地端，用于為所述第一通路的第二端和所述第二通路的第二端接地。

8.根據權利要求7所述的射頻提供裝置，其特征在于，所述內線圈的功率小于所述外線圈的功率。

9.一種射頻控制方法，其特征在于，包括：

控制權利要求1-6任一項所述的電感耦合線圈的第一可調電容，以控制所述中線圈的功率。

10.一種等離子體處理設備，其特征在于，包括：

晶圓固定裝置，用于固定待處理晶圓；

工藝氣體提供裝置，用于提供工藝氣體；

如權利要求7或8所述的射頻提供裝置，用于產生高頻交變磁場，以使所述工藝氣體形成等離子體，從而利用所述等離子體對所述待處理晶圓進行處理。