[發明專利]光學系統公差分析方法有效
| 申請號： | 202111553622.3 | 申請日： | 2021-12-17 |
| 公開（公告）號： | CN114326098B | 公開（公告）日： | 2023-06-20 |
| 發明（設計）人： | 吳洪波;張新;張建萍;王靈杰;史廣維;趙尚男;付強 | 申請（專利權）人： | 中國科學院長春光學精密機械與物理研究所 |
| 主分類號： | G02B27/00 | 分類號： | G02B27/00 |
| 代理公司： | 長春中科長光知識產權代理事務所(普通合伙) 22218 | 代理人： | 郭婷 |
| 地址： | 130033 吉林省長春*** | 國省代碼： | 吉林;22 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 光學系統 公差 分析 方法 | ||
1.一種光學系統公差分析方法，其特征在于，應用于大視場巡天望遠鏡光學系統，包括以下步驟：
S1、計算所述光學系統特征視場下的PSF橢率；
S2、根據所述PSF橢率對公差靈敏度進行分析，并完成公差分配；
S3、生成M個含公差的光學系統隨機樣本；
S4、分別計算每個所述隨機樣本中N個特征視場的PSF橢率，獲得M×N個PSF橢率的計算結果；
S5、對所述M個樣本通過統計方法計算所述N個視場下的PSF橢率的變化量；所述步驟S5包括以下子步驟：
S501、計算所述N個視場下的M個PSF橢率樣本的均值P和標準差S：
其中，EN0為任一視場的PSF橢率名義值，C(50.0)、C(50.1)和C(84.1)分別為所述PSF橢率分別在50％、50.1％和84.1％概率下的改變量；
S502、PSF橢率的變化量為：
S6、根據所述PSF橢率的變化量對成像穩定性公差進行評價；
在不同類型公差共同擾動下的均值P和標準差S提供不同公差的統計數據進行合成得到：
2.根據權利要求1所述的光學系統公差分析方法，其特征在于，所述步驟S1包括以下子步驟：
S100、建立數值計算軟件與光學設計軟件之間的動態鏈接；
S101、獲取所述光學系統的PSF數據文件；
S102、計算所述光學系統的PSF橢率。
3.根據權利要求2所述的光學系統公差分析方法，其特征在于，所述步驟S100包括以下子步驟：
S1001、設置所述光學系統的視場范圍和間隔；
S1002、建立所述動態鏈接。
4.根據權利要求3所述的光學系統公差分析方法，其特征在于，所述步驟S3采用蒙特卡洛方法生成M個含成像穩定性公差的隨機樣本，每個樣本表示所述光學系統的一個隨機狀態。
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