[發(fā)明專利]一種用于MOCVD設備的旋轉系統(tǒng)及MOCVD設備

在審

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• 申請日: 2021-12-17
• 公開（公告）號: CN114164413A
• 公開（公告）日: 2022-03-11
• 發(fā)明（設計）人: 張森;于大洋;費磊;王祥;郭付成
• 申請（專利權）人: 北京沁圓半導體設備有限公司
• 主分類號: C23C16/458
• 分類號: C23C16/458;C30B25/12
• 代理公司: 北京金咨知識產權代理有限公司 11612
• 代理人: 岳燕敏

1.一種用于MOCVD設備的旋轉系統(tǒng)，其特征在于，所述系統(tǒng)包括：

桶狀殼體，用于與反應腔本體連接，且所述桶狀殼體用于封堵所述反應腔本體的底部敞口，所述桶狀殼體包括頂板及沿所述頂板外周布置的周向側壁，所述周向側壁上具有環(huán)形槽，所述環(huán)形槽將所述桶狀殼體的上半部周向側壁分隔為上半部內側壁和上半部外側壁；

磁懸浮電機，包括定子及轉子，所述定子套置在所述桶狀殼體的周向側壁外則，所述轉子嵌設在所述周向側壁的環(huán)形槽內，且所述上半部外側壁為所述定子與轉子之間的隔板；

旋轉筒，用于設置在所述反應腔本體的中空腔體內，所述旋轉筒與所述轉子連接，且所述旋轉筒與所述轉子同步旋轉；

托盤，用于設置在所述反應腔本體的中空腔體內，且所述托盤位于所述旋轉筒頂部，所述托盤與所述旋轉筒同步旋轉；

加熱組件，用于設置在所述反應腔本體的中空腔體內，且所述加熱組件位于所述托盤的下方，所述加熱組件用于對所述托盤加熱。

2.根據權利要求1所述的用于MOCVD設備的旋轉系統(tǒng)，其特征在于，所述旋轉系統(tǒng)還包括底板，所述底板設置在所述桶狀殼體的底部，所述定子與所述底板固定連接。

3.根據權利要求1所述的用于MOCVD設備的旋轉系統(tǒng)，其特征在于，所述上半部外側壁的厚度小于所述上半部內側壁的厚度。

4.根據權利要求3所述的用于MOCVD設備的旋轉系統(tǒng)，其特征在于，所述上半部外側壁的厚度為0.5mm至1.5mm。

5.根據權利要求1所述的用于MOCVD設備的旋轉系統(tǒng)，其特征在于，所述桶狀殼體的周向側壁外側具有凸沿，所述凸沿與所述反應腔本體的底部連接。

6.根據權利要求5所述的用于MOCVD設備的旋轉系統(tǒng)，其特征在于，所述凸沿上設有環(huán)形密封槽，所述反應腔本體與所述桶狀殼體通過O型密封圈密封。

7.根據權利要求5所述的用于MOCVD設備的旋轉系統(tǒng)，其特征在于，所述轉子的頂部具有朝向所述轉子的外部延伸的水平部，在所述轉子靜止狀態(tài)下，所述轉子的水平部支撐在所述桶狀殼體的凸沿上。

8.根據權利要求1所述的用于MOCVD設備的旋轉系統(tǒng)，其特征在于，所述加熱組件包括加熱器、電極棒、電極板以及電極，所述加熱器位于所述托盤底部，所述電極板位于所述加熱器底部，所述電極棒的兩端分別與所述加熱器及電極板連接，所述電極的一端與所述電極板連接，所述電極的另一端延伸至所述反應腔本體的外部。

9.根據權利要求8所述的用于MOCVD設備的旋轉系統(tǒng)，其特征在于，所述桶狀殼體的頂板上具有電極過孔，且所述電極過孔與所述電極之間的間隙填充有密封件。

10.一種MOCVD設備，其特征在于，所述MOCVD設備包括反應腔室，所述反應腔室包括反應腔本體和如權利要求1至9中任意一項所述的用于MOCVD設備的旋轉系統(tǒng)。