[發(fā)明專利]偏振膜的制造方法和制造裝置

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• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202111546033.2
• 申請(qǐng)日: 2017-08-16
• 公開（公告）號(hào): CN114200568A
• 公開（公告）日: 2022-03-18
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 住田幸司;趙天熙;崔允碩
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 住友化學(xué)株式會(huì)社
• 主分類號(hào): G02B5/30
• 分類號(hào): G02B5/30;G02F1/1335
• 代理公司: 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021
• 代理人: 朱丹

1.一種偏振膜的制造方法，其是由聚乙烯醇系樹脂膜制造偏振膜的方法，包括下述工序：

將所述聚乙烯醇系樹脂膜用二色性色素進(jìn)行染色處理的染色工序；

將所述染色處理后的所述聚乙烯醇系樹脂膜用交聯(lián)劑進(jìn)行交聯(lián)處理的交聯(lián)工序；

通過短波長(zhǎng)紅外線加熱器、高速響應(yīng)中波長(zhǎng)紅外線加熱器或碳加熱器對(duì)所述交聯(lián)處理后的所述聚乙烯醇系樹脂膜照射電磁波的電磁波照射工序，所述電磁波中的波長(zhǎng)超過2μm且為4μm以下的紅外線的輻射能量的比例為總輻射能量的25％以上；以及

將照射所述電磁波后的所述聚乙烯醇系樹脂膜進(jìn)行清洗的清洗工序。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的偏振膜的制造方法，其中，在所述電磁波照射工序中，所述電磁波的照射熱量相對(duì)于所述聚乙烯醇系樹脂膜的每單位體積為100J/cm³以上且50kJ/cm³以下。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的偏振膜的制造方法，其中，所述交聯(lián)劑包含硼化合物。

4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的偏振膜的制造方法，其中，所述交聯(lián)工序是使所述聚乙烯醇系樹脂膜浸漬于包含所述交聯(lián)劑的水溶液的交聯(lián)浴的工序。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的偏振膜的制造方法，其還包括：在所述交聯(lián)處理之后且照射所述電磁波之前，將附著于所述聚乙烯醇系樹脂膜的表面的所述水溶液去除的除液工序。

6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的偏振膜的制造方法，其中，所述電磁波照射工序在將所述聚乙烯醇系樹脂膜從所述交聯(lián)浴中拉出后5秒以內(nèi)進(jìn)行。

7.一種偏振膜的制造裝置，其是由聚乙烯醇系樹脂膜制造偏振膜的制造裝置，其具備：

將所述聚乙烯醇系樹脂膜用二色性色素進(jìn)行染色處理的染色部；

將所述染色處理后的所述聚乙烯醇系樹脂膜用交聯(lián)劑進(jìn)行交聯(lián)處理的交聯(lián)部；

對(duì)所述交聯(lián)處理后的所述聚乙烯醇系樹脂膜照射電磁波的電磁波照射部，所述電磁波中的波長(zhǎng)超過2μm且為4μm以下的紅外線的輻射能量的比例為總輻射能量的25％以上，所述電磁波照射部為短波長(zhǎng)紅外線加熱器、高速響應(yīng)中波長(zhǎng)紅外線加熱器或碳加熱器；以及

將照射所述電磁波后的所述聚乙烯醇系樹脂膜進(jìn)行清洗的清洗部。

8.根據(jù)權(quán)利要求7的偏振膜的制造裝置，其在電磁波照射部之前，設(shè)有將附著于交聯(lián)處理后的所述聚乙烯醇系樹脂膜的表面的交聯(lián)液去除的除液機(jī)構(gòu)，通過所述除液機(jī)構(gòu)去除所述交聯(lián)液。