[發明專利]一種兼具電場感應和光場感知的功能裝置及應用在審
| 申請號: | 202111545378.6 | 申請日: | 2021-12-16 |
| 公開(公告)號: | CN114236249A | 公開(公告)日: | 2022-03-25 |
| 發明(設計)人: | 曾瑋;肖仁旺;賀新雨;陳修宇;桂鵬彬;王思亮;陳志亮;黃志祥 | 申請(專利權)人: | 安徽大學 |
| 主分類號: | G01R29/08 | 分類號: | G01R29/08;G01J1/42 |
| 代理公司: | 合肥國和專利代理事務所(普通合伙) 34131 | 代理人: | 孫永剛 |
| 地址: | 230601 安徽省*** | 國省代碼: | 安徽;34 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 兼具 電場 感應 感知 功能 裝置 應用 | ||
1.一種傳感模塊,其特征在于,包括WO3/BiVO4/MXene工作電極、對電極和參比電極;
所述WO3/BiVO4/MXene工作電極包括設在FTO上的100-110nm厚的WO3薄膜,其中單個WO3晶體的面積為(0.5-1.0)μm×(0.1-0.5)μm,厚度為0.2-0.3μm,WO3薄膜上為0.1-0.2μm厚的BiVO4薄膜,BiVO4薄膜上為20-30nm厚的MXene薄膜。
2.根據權利要求1所述的一種傳感模塊,其特征在于,所述WO3/BiVO4/MXene工作電極通過以下方法制備:
1)制作WO3電極:將1.21-1.25mmol Na2WO4·2H2O和1.06-1.16mmol(NH4)2C2O4·H2O溶解在33-36mL去離子水中,攪拌中加入9-12mL HCl,繼續加入8-10mL H2O2溶液,攪拌持續10-15min,加入30-35mL無水C2H6O,攪拌持續10-15min,通過水浴加熱法在FTO上合成WO3薄膜,然后在500-550℃退火處理2-3h;
2)制作WO3/BiVO4極:將0.25-0.30mmol Bi(NO4)2·5H2O和0.30-0.35mmol C10H14O5V溶于5-10mL由CH3COOH和C5H8O2按體積比為20:1組成的混合溶液中,在室溫下攪拌至沒有沉淀物,將20-30μL BiVO4前驅體溶液涂覆在WO3表面上,在室溫下干燥,然后在空氣中于150-200℃下熱處理15-20min,最后在550-600℃下進行2-2.5h退火;
3)制作WO3/BiVO4/MXene電極:將0.5-1.5g LiF、10-30mL HCl溶液、0.5-1.5g Ti3AlC2在30-40℃下攪拌23-24h,再用去離子水反復洗滌并以3000-3500r min-1離心,超聲粉碎40-50min,最后以3000-3500r min-1離心25-35min,得到濃度為1-3mg mL-1MXene前驅體溶液,采用速率2000-2500r s-1、時間為30-35s的旋涂法,在WO3/BiVO4基底上沉積1-3mg mL-1MXene溶液,最終形成WO3/BiVO4/MXene工作電極。
3.一種兼具電場感應和光場感知的功能裝置,其特征在于,包括機械模塊、處理模塊、顯示模塊、電源管理模塊及權利要求1-2任一項所述的傳感模塊;
所述電源管理模塊分別與機械模塊、處理模塊和顯示模塊連接,并向機械模塊、處理模塊和顯示模塊供電,所述處理模塊分別與機械模塊、傳感模塊和顯示模塊連接。
4.根據權利要求3所述的一種兼具電場感應和光場感知的功能裝置,其特征在于,所述機械模塊包括擋電場板和擋光場板;
所述擋光場板用于控制光場是否作用于傳感模塊的工作電極;所述擋電場板用于控制靜電場是否作用于工作電極。
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