[發(fā)明專利]一種基于機器學習的光頻梳性能分析方法及系統(tǒng)在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202111544862.7 | 申請日: | 2021-12-16 |
| 公開(公告)號: | CN114218834A | 公開(公告)日: | 2022-03-22 |
| 發(fā)明(設計)人: | 文進;秦韋俊;何晨瑤;孫偉;梁伯值;熊科宇 | 申請(專利權)人: | 西安石油大學 |
| 主分類號: | G06F30/23 | 分類號: | G06F30/23;G06F30/27;G06F111/10 |
| 代理公司: | 西安通大專利代理有限責任公司 61200 | 代理人: | 馬貴香 |
| 地址: | 710065 陜*** | 國省代碼: | 陜西;61 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 基于 機器 學習 光頻梳 性能 分析 方法 系統(tǒng) | ||
一種基于機器學習的光頻梳性能分析方法及系統(tǒng),包括以下步驟:步驟1,通過仿真軟件對微環(huán)諧振腔平臺的波導類型建模仿真,并將仿真的二維數(shù)據(jù)導出備用;步驟2,在上階段模擬得到的仿真結果的數(shù)據(jù)基礎上計算高階色散系數(shù),在色散數(shù)據(jù)中輸入對應的色散值,得到理想的光頻梳光譜;步驟3,將上一階段得到的數(shù)據(jù),通過建立神經(jīng)網(wǎng)絡模型訓練,對模型預測性能進行評估,實現(xiàn)整個GUI界面的具體分布和排版。本發(fā)明專利將硅基微環(huán)諧振腔產(chǎn)生光頻梳的性能參數(shù)利用機器學習的方法進行分析,突破了傳統(tǒng)方法的時耗性和局限性。仿真過程耗費更少的時間,整個過程前期只需一次工作量較大的數(shù)據(jù)完全準備,利用數(shù)據(jù)并訓練好模型后,只需一鍵便可得到結果,從而大大減少了工作量,提高了工作效率。
技術領域
本發(fā)明屬于光子學與人工智能技術交叉領域,特別涉及一種基于機器學習的光頻梳性能分析方法及系統(tǒng)。
背景技術
近年來,基于級聯(lián)四波混頻效應的硅基微環(huán)諧振腔光頻梳的產(chǎn)生技術在有了很大的發(fā)展和突破,并在各個領域具有廣泛的應用前景。在硅基微環(huán)諧振腔光頻梳的產(chǎn)生過程中,研究的重點多在于泵浦參數(shù)對產(chǎn)生光頻梳的性能影響,而對光頻梳的優(yōu)化需要利用改良的Lugiato-Lefever equation(LLE)模型對四波混頻效應進行數(shù)值模擬。在實驗室工作中如果針對不同的波導和微環(huán)諧振腔參數(shù)產(chǎn)生光頻梳,制備不同的結構顯然不符合實際,因此如何高效的進行技術仿真模擬就成為了新的技術目標,一定程度上也可以節(jié)省時間成本和工藝成本。在數(shù)值模擬的過程中,需要大量的參數(shù)調整和變換,而每次變換都需要一次模擬工作,并且對模擬結果要進行記錄分析,如若可以利用機器學習的方法在前期根據(jù)已有數(shù)據(jù)建立模型后,可以實現(xiàn)根據(jù)具體泵浦參數(shù)直接輸出頻梳參數(shù)結果的需求,該方法將進一步減少了模擬光頻梳產(chǎn)生及性能分析所需要的時間。
發(fā)明內容
本發(fā)明的目的在于提供一種基于機器學習的光頻梳性能分析方法及系統(tǒng),以解決上述問題。
為實現(xiàn)上述目的,本發(fā)明采用以下技術方案:
一種基于機器學習的光頻梳性能分析方法,包括以下步驟:
步驟1,通過仿真軟件對硅基微環(huán)諧振腔平臺的波導進行建模仿真,并將仿真的二維數(shù)據(jù)導出備用;
步驟2,在上階段模擬得到的仿真結果數(shù)據(jù)基礎上計算高階色散數(shù)據(jù),在模擬光頻梳產(chǎn)生過程中輸入泵浦條件對應的色散值,得到理想的光頻梳光譜;
步驟3,將上一階段得到的數(shù)據(jù)整理為輸入?yún)?shù)列在前,輸出參數(shù)列在后的訓練數(shù)據(jù)和檢測數(shù)據(jù),通過建立神經(jīng)網(wǎng)絡模型對數(shù)據(jù)集進行訓練,訓練好的模型將用未包含在訓練數(shù)據(jù)中的數(shù)據(jù)進行預測,并對模型預測性能進行評估,實現(xiàn)整個GUI界面的具體分布和排版。
進一步地,步驟1中具體為:
結構建模方法得到驗證后更準確地得到本專利所需結構的仿真結果,該過程包含波導模場分布,色散曲線的計算和方法驗證工作;
使用波導截面為脊型的硅基微環(huán)諧振腔結構,在微米量級調整截面參數(shù),通過有限元分析法得到對應泵浦波長處的模場分布,進一步利用Sellmeier公式計算獲得色散曲線,針對不同結構參數(shù)下得到的色散曲線,選取平坦度較好同時使零色散波長點落在3.5μm曲線對應的設計參數(shù),實現(xiàn)波導結構的參數(shù)優(yōu)化;
在得到硅基微環(huán)諧振腔結構的有效折射率的基礎上,分別繪制傳播常數(shù)與波長、有效折射率與波長的曲線圖,并將對應的二維數(shù)據(jù)導出備用。
進一步地,步驟1中仿真軟件為多物理場仿真軟件COMSOL Multiphysic。
進一步地,步驟2中計算高階色散系數(shù):
利用MATLAB程序軟件,依據(jù)高階色散系數(shù)與波長的關系,在上階段模擬得到的仿真結果的數(shù)據(jù)基礎上計算高階色散系數(shù),并得到高階色散與波長的關系曲線圖,將計算得到的數(shù)值進行整理。
進一步地,步驟2中光頻梳光譜具體為:
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