[發明專利]一種紫外多模響應熒光防偽標簽在審
| 申請號: | 202111544608.7 | 申請日: | 2021-12-16 |
| 公開(公告)號: | CN114316984A | 公開(公告)日: | 2022-04-12 |
| 發明(設計)人: | 雷磊;徐時清;華有杰;鄧德剛;張軍杰 | 申請(專利權)人: | 中國計量大學上虞高等研究院有限公司 |
| 主分類號: | C09K11/85 | 分類號: | C09K11/85;G09F3/02 |
| 代理公司: | 杭州恒翌專利代理事務所(特殊普通合伙) 33298 | 代理人: | 柯奇君 |
| 地址: | 312300 浙江省紹興市上虞區曹娥街*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 紫外 響應 熒光 防偽 標簽 | ||
1.一種紫外響應多模熒光防偽標簽,其特征在于,防偽標簽材料采用KSc3F10為形核劑,采用外延生長溶劑熱法制備納米晶材料。
2.根據權利要求1所述的一種紫外響應多模熒光防偽標簽,其特征在于摻雜Bi/Ce/Tb,在不同紫外波段條件下輸出不同的顏色。
3.根據權利要求2所述的一種紫外響應多模熒光防偽標簽,其特征在于通過摻雜Cs+離子改變晶體場環境,使 Ce3+離子5d能級發生劈裂,形成藍光發射能級。
4.根據權利要求2所述的一種紫外響應多模熒光防偽標簽,其特征在于通過摻雜Bi3+離子使晶格膨脹,降低365nm激發條件下Ce3+離子到Tb3+離子的能量傳遞效率,產生Ce3+離子強的藍光發射,而254nm光子能量可以借助Tb3+離子的高能級來填充5D4能級,進而產生4f-4f綠光躍遷波段,形成254nm與365nm激發條件下的不同熒光性能。
5.根據權利要求2所述的一種紫外響應多模熒光防偽標簽,其特征在于納米晶在254nm紫外燈照射下呈綠光,在365nm紫外燈照射下呈藍光,254nm紫外燈和365nm紫外燈同時照射時呈現藍綠色。
6.根據權利要求1所述的一種紫外響應多模熒光防偽標簽,其特征在于防偽標簽材料的化學式是:K0.9Cs0.1Sc3F10:Bi/Ce/Tb。
7.一種紫外響應多模熒光防偽標簽的制備方法,其特征依次包括如下步驟:
(1)按摩爾百分比將1毫摩爾硝酸鉀,3毫摩爾硝酸鈧,15毫摩爾氟化銨,10毫升水與30毫升油酸在150度保溫12小時,用乙醇與環己烷混合液離心洗滌得到KSc3F10形核劑;
(2)按摩爾百分比將0.9毫摩爾硝酸鉀,0.1毫摩爾乙酸銫,0.2-0.4毫摩爾硝酸鉍,0.4-0.8毫摩爾硝酸鈰,0.1-0.2毫摩爾硝酸鋱,1.6-2.3毫摩爾硝酸鈧,10毫升水與30毫升油酸在室溫下攪拌30-40分鐘,然后加入KSc3F10形核劑,繼續攪拌40-60分鐘,然后加入含有的12-18毫摩爾氟化銨的水溶液,在室溫下攪拌40-60分鐘,然后轉移到水熱釜中,在160-180度保溫10-24小時,反應結束后用乙醇與環己烷混合液離心洗滌得到K0.9Cs0.1Sc3F10:Bi/Ce/Tb納米晶。
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