[發明專利]一種電子設備蓋板在審
| 申請號: | 202111544342.6 | 申請日: | 2021-12-17 |
| 公開(公告)號: | CN114311885A | 公開(公告)日: | 2022-04-12 |
| 發明(設計)人: | 洪莘;高育龍;游偉 | 申請(專利權)人: | 昇印光電(昆山)股份有限公司 |
| 主分類號: | B32B17/02 | 分類號: | B32B17/02;B32B17/06;B32B7/023;B32B7/12;B32B27/30;B32B27/32;B32B27/36;B32B27/40;B32B33/00;H05K5/02 |
| 代理公司: | 淮安市科翔專利商標事務所 32110 | 代理人: | 韓曉斌 |
| 地址: | 215300 江蘇省蘇*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 電子設備 蓋板 | ||
1.一種電子設備蓋板,其特征在于,包括:
玻纖層,所述玻纖層包括第一表面以及相對設置的第二表面;
光學間隔層,所述光學間隔層位于所述玻纖層第一表面,所述光學間隔層至少視覺上呈現一種顏色;或者,所述光學間隔層對光線具有反射功能,且反射率不小于30%;
保護層,所述保護層設于所述光學間隔層遠離所述玻纖層一側,且所述保護層遠離光學間隔層一側的硬度不小于2H。
2.根據權利要求1所述的一種電子設備蓋板,其特征在于,所述保護層遠離所述光學間隔層一側設有微納結構,且所述微納結構在垂直于保護層平面方向的高度差不大于2微米。
3.根據權利要求1所述的一種電子設備蓋板,其特征在于,所述光學間隔層至少包含兩層;其中,至少一層表面設有光學結構,形成光學結構層。
4.根據權利要求3所述的一種電子設備蓋板,其特征在于,所述光學結構的結構面朝向所述玻纖層,所述光學結構表面設有介質膜,所述介質膜遠離所述光學結構一側設有遮擋層。
5.根據權利要求1所述的一種電子設備蓋板,其特征在于,所述光學間隔層至少包含兩層光學結構層,其中,一光學結構層設有第一光學結構,另一光學結構層設有第二光學結構。
6.根據權利要求5所述的一種電子設備蓋板,其特征在于,所述第一光學結構靠近所述玻纖層,且所述第一光學結構的結構面朝向所述玻纖層,所述第一光學結構表面設有第一介質膜,所述第一介質膜表面設有遮擋層。
7.根據權利要求6所述的一種電子設備蓋板,其特征在于,所述第二光學結構的結構面朝向所述第一光學結構,且形成所述第一光學結構材料的折射率與形成所述第二光學結構材料的折射率之差的絕對值不小于0.2。
8.根據權利要求6所述的一種電子設備蓋板,其特征在于,所述第二光學結構的結構面朝向所述第一光學結構,且所述第二光學結構表面設有第二介質膜。
9.根據權利要求6所述的一種電子設備蓋板,其特征在于,所述第二光學結構的結構面與所述第一光學結構的結構面相向設置,且所述所述第二光學結構表面設有第二介質膜;或者,所述第二光學結構的結構面與所述第一光學結構的結構面相向設置。
10.根據權利要求1所述的一種電子設備蓋板,其特征在于,所述光學間隔層視覺上具有顏色漸變;或者,所述光學間隔層視覺上具有動態的光柱。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于昇印光電(昆山)股份有限公司,未經昇印光電(昆山)股份有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202111544342.6/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:一種工件翻轉機構
- 下一篇:一種用于人防工程運維的可視化監管方法





