[發明專利]勻場裝置、磁場組件、磁共振成像系統及勻場方法在審
| 申請號: | 202111543730.2 | 申請日: | 2021-12-16 |
| 公開(公告)號: | CN114200366A | 公開(公告)日: | 2022-03-18 |
| 發明(設計)人: | 舒善毅;楊績文;劉曙光 | 申請(專利權)人: | 武漢聯影生命科學儀器有限公司 |
| 主分類號: | G01R33/385 | 分類號: | G01R33/385 |
| 代理公司: | 杭州華進聯浙知識產權代理有限公司 33250 | 代理人: | 趙潔修 |
| 地址: | 430206 湖北省武漢市東湖新技術開發區高新大*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 裝置 磁場 組件 磁共振 成像 系統 方法 | ||
1.一種用于磁共振成像系統的勻場裝置,所述磁共振成像系統包括用于產生主磁場的磁體(200),其特征在于,所述磁體(200)設有裝配腔(201),所述勻場裝置(100)包括勻場結構(110),所述勻場結構(110)設于所述裝配腔(201)內。
2.根據權利要求1所述的用于磁共振成像系統的勻場裝置,其特征在于,所述裝配腔(201)內用于安裝梯度線圈(300),且所述梯度線圈(300)的外壁與所述磁體(200)的內壁形成一環形的安裝間隙(400),所述勻場結構(110)設于所述安裝間隙(400)內。
3.根據權利要求2所述的用于磁共振成像系統的勻場裝置,其特征在于,所述勻場結構(110)包括多個勻場單元(111),所述勻場單元(111)沿著所述裝配腔(201)的軸向延伸,且多個所述勻場單元(111)沿著所述裝配腔(201)的內壁的周向分布。
4.根據權利要求3所述的用于磁共振成像系統的勻場裝置,其特征在于,所述勻場單元(111)設有多個沿著所述裝配腔(201)軸向分布的安置槽(112),所述安置槽(112)的開口方向朝向遠離所述磁體(200)的一側,所述安置槽(112)用于裝設勻場片(500)。
5.根據權利要求4所述的用于磁共振成像系統的勻場裝置,其特征在于,多個所述安置槽(112)分布于所述勻場單元(111)的長度方向的中間部位。
6.根據權利要求3所述的用于磁共振成像系統的勻場裝置,其特征在于,每個所述勻場單元(111)包括一個沿著所述裝配腔(201)軸向延伸的主勻場條(114)和兩個沿著所述裝配腔(201)軸向延伸的輔勻場條(115),且兩個所述輔勻場條(115)分別裝配于所述主勻場條(114)沿著所述裝配腔(201)周向的兩側。
7.根據權利要求6所述的用于磁共振成像系統的勻場裝置,其特征在于,所述勻場結構(110)還包括固定環(117),多個所述主勻場條(114)的一端可拆卸安裝于所述固定環(117),所述主勻場條(114)的另一端與輔勻場條(115)連接。
8.根據權利要求3所述的用于磁共振成像系統的勻場裝置,其特征在于,所述勻場裝置(100)還包括多個沿著所述磁體(200)的內壁的周向分布的限位條(120),相鄰所述限位條(120)與所述磁體(200)的內壁圍設形成一沿著所述裝配腔(201)的軸向延伸的限位槽(121),所述勻場單元(111)裝設于所述限位槽(121)內。
9.根據權利要求8所述的用于磁共振成像系統的勻場裝置,其特征在于,所述限位條(120)的橫截面呈T字形,所述限位條(120)連接于磁體(200)內壁。
10.一種用于磁共振成像系統的磁場組件,其特征在于,所述磁場組件包括磁體(200)和用于安裝勻場單元(111)的限位結構(130),所述磁體(200)設有裝配腔(201);所述限位結構(130)包括多個限位條(120),所述限位條(120)沿著所述裝配腔(201)的周向分布并與所述磁體(200)的內壁連接,相鄰所述限位條(120)與所述磁體(200)的內壁圍設形成一沿著所述裝配腔(201)的軸向延伸的限位槽(121),所述限位槽(121)用于裝設所述勻場單元(111)。
11.一種磁共振成像系統,其特征在于,所述磁共振成像系統包括磁體(200)和如權利要求1-9任意一項所述的勻場裝置(100),所述磁體(200)設有裝配腔(201),所述勻場裝置(100)設于所述裝配腔(201)內。
12.根據權利要求11所述的磁共振成像系統,其特征在于,所述磁共振成像系統還包括梯度線圈(300),所述勻場裝置(100)位于磁體(200)和梯度線圈(300)之間,且所述勻場裝置(100)與所述梯度線圈(300)之間存在間隙。
13.一種用于磁共振成像系統的勻場方法,其特征在于,采用具有主勻場條(114)和輔勻場條(115)的勻場裝置(100),所述勻場方法包括以下步驟:
第一次測量磁體(200)的主磁場的磁場分布情況,
根據第一次測得的磁場分布結果,將具有主勻場片(500a)的主勻場條(114)安裝于所述磁體(200)與梯度線圈(300)之間,
第二次測量磁體(200)的主磁場的磁場分布情況,
根據第二次測得的磁場分布結果,將具有輔勻場片(500b)的輔勻場條(115)安裝于主勻場條(114)之間。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于武漢聯影生命科學儀器有限公司,未經武漢聯影生命科學儀器有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202111543730.2/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





