[發(fā)明專利]一種熔滲設(shè)備和熔滲方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202111538150.4 | 申請日: | 2021-12-15 |
| 公開(公告)號: | CN114131022A | 公開(公告)日: | 2022-03-04 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 胡祥龍;胡高健;王濤;張博;左紅軍;張昊;朱申;蔣博;諶雷 | 申請(專利權(quán))人: | 航天特種材料及工藝技術(shù)研究所 |
| 主分類號: | B22F3/26 | 分類號: | B22F3/26;B22F3/00;B22D23/04 |
| 代理公司: | 北京集佳知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227 | 代理人: | 任潔芳 |
| 地址: | 100074 北*** | 國省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 設(shè)備 方法 | ||
本申請公開了一種熔滲設(shè)備,包括:加熱爐(1),所述加熱爐(1)內(nèi)設(shè)有熔滲室(11);所述熔滲室(11)內(nèi)還設(shè)有用于固定工件的固定架(2),以及用于容納熔滲液的容器(3),所述容器(3)位于所述固定架(2)下方;所述固定架(2)可旋轉(zhuǎn)。本申請還提供一種熔滲方法。本申請?zhí)峁┑娜蹪B設(shè)備和熔滲方法,使工件在熔滲液中轉(zhuǎn)動,提高工件熔滲的均勻性。
技術(shù)領(lǐng)域
本申請涉及復(fù)合材料技術(shù)領(lǐng)域,特別是涉及一種熔滲設(shè)備和熔滲方法。
背景技術(shù)
熔滲工藝是指用熔點比制品熔點低的金屬或合金,在熔融狀態(tài)下充填未燒結(jié)的或燒結(jié)的制品內(nèi)的孔隙的工藝方法。為了使無潤濕性液態(tài)金屬滲入微孔結(jié)構(gòu),還發(fā)展出了壓力熔滲工藝,通過向爐內(nèi)輸入氣體實現(xiàn)高壓,加大熔滲壓力,進(jìn)一步提高工件的性能。
由于加壓是通過輸入氣體實現(xiàn)的,在實際生產(chǎn)過程中,容易出現(xiàn)工件熔滲不均勻的問題,尤其是對于大尺寸工件,均勻壓力熔滲是一個難題。
發(fā)明內(nèi)容
為解決上述技術(shù)問題,本發(fā)明的第一個目的為提供一種熔滲設(shè)備;本發(fā)明的第二個目的為提供一種熔滲方法;本申請?zhí)峁┑娜蹪B設(shè)備和熔滲方法,使工件在熔滲液中轉(zhuǎn)動,提高工件熔滲的均勻性。
本發(fā)明提供的技術(shù)方案如下:
一種熔滲設(shè)備,包括:
加熱爐,所述加熱爐內(nèi)設(shè)有熔滲室;
所述熔滲室內(nèi)還設(shè)有用于固定工件的固定架,以及用于容納熔滲液的容器,所述容器位于所述固定架下方;
所述固定架可旋轉(zhuǎn)。
優(yōu)選地,所述固定架可相對于所述容器升降。
優(yōu)選地,所述固定架設(shè)有多個用于與工件連接的連接位點。
優(yōu)選地,每個所述連接位點分別設(shè)有吊掛件,所述吊掛件用于吊掛工件。
優(yōu)選地,所述固定架設(shè)有轉(zhuǎn)軸,所述轉(zhuǎn)軸的另一端伸出所述熔滲室,并與動力源相連。
優(yōu)選地,所述熔滲室還設(shè)有進(jìn)氣通道、出氣通道,所述進(jìn)氣通道連接氣源,所述出氣通道連接真空泵。
優(yōu)選地,所述加熱爐內(nèi)還設(shè)有發(fā)熱體和保溫層,所述發(fā)熱體位于所述保溫層內(nèi)。
優(yōu)選地,還設(shè)有控制機(jī)構(gòu),所述控制機(jī)構(gòu)控制所述加熱爐、固定架的工作。
一種熔滲方法,包括以下步驟:
使工件浸入熔滲液中;
使環(huán)境壓力和溫度維持在熔滲所需范圍內(nèi);
使工件在熔滲液中轉(zhuǎn)動,進(jìn)行熔滲;
熔滲完畢,降低溫度和壓力后,取出工件。
優(yōu)選地,使工件浸入熔滲液中具體為:保持工件在熔滲介質(zhì)中的狀態(tài),將熔滲介質(zhì)加熱形成熔滲液;或使熔滲介質(zhì)加熱形成熔滲液后,將工件浸入熔滲液。
本申請?zhí)峁┮环N熔滲設(shè)備,包括加熱爐和加熱爐內(nèi)的熔滲室,熔滲室內(nèi)設(shè)置固定架、容器,固定架用于固定工件,容器用盛放熔滲液,并且固定架可旋轉(zhuǎn)。本申請?zhí)峁┑娜蹪B設(shè)備使用時,固定架帶動工件在容器中的熔滲液中轉(zhuǎn)動,使得工件在熔滲過程中,與熔滲室的相對位置是變化的,減少熔滲室內(nèi)的壓力波動對工件熔滲均勻性的影響,從而提高工件熔滲的均勻性。
本申請還提供一種熔滲方法,使工件浸入熔滲液,然后在適宜的壓力和溫度環(huán)境下,使工件一邊旋轉(zhuǎn)一邊熔滲,提高熔滲的均勻性。環(huán)境壓力可以通過抽真空、充入氣體實現(xiàn)高壓等方式進(jìn)行調(diào)節(jié),溫度可以通過加熱的方式進(jìn)行調(diào)節(jié)。
附圖說明
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于航天特種材料及工藝技術(shù)研究所,未經(jīng)航天特種材料及工藝技術(shù)研究所許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202111538150.4/2.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 傳感設(shè)備、檢索設(shè)備和中繼設(shè)備
- 簽名設(shè)備、檢驗設(shè)備、驗證設(shè)備、加密設(shè)備及解密設(shè)備
- 色彩調(diào)整設(shè)備、顯示設(shè)備、打印設(shè)備、圖像處理設(shè)備
- 驅(qū)動設(shè)備、定影設(shè)備和成像設(shè)備
- 發(fā)送設(shè)備、中繼設(shè)備和接收設(shè)備
- 定點設(shè)備、接口設(shè)備和顯示設(shè)備
- 傳輸設(shè)備、DP源設(shè)備、接收設(shè)備以及DP接受設(shè)備
- 設(shè)備綁定方法、設(shè)備、終端設(shè)備以及網(wǎng)絡(luò)側(cè)設(shè)備
- 設(shè)備、主設(shè)備及從設(shè)備
- 設(shè)備向設(shè)備轉(zhuǎn)發(fā)





