[發(fā)明專利]掃描磁場導(dǎo)向沉積鍍膜的磁過濾真空沉積鍍膜設(shè)備及方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202111537554.1 | 申請日: | 2021-12-15 |
| 公開(公告)號: | CN114318246A | 公開(公告)日: | 2022-04-12 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 郎文昌;劉俊紅;徐峰;李多生;劉偉 | 申請(專利權(quán))人: | 蘇州艾鈦科納米科技有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/32 | 分類號: | C23C14/32;C23C14/54 |
| 代理公司: | 溫州名創(chuàng)知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 33258 | 代理人: | 朱海曉 |
| 地址: | 215000 江蘇省蘇州*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 掃描 磁場 導(dǎo)向 沉積 鍍膜 過濾 真空 設(shè)備 方法 | ||
1.一種掃描磁場導(dǎo)向沉積鍍膜的磁過濾真空沉積鍍膜設(shè)備,包括一個或一個以上數(shù)目的真空弧磁過濾裝置、弧源組件(2)和真空鍍膜腔室(3);
所述真空弧磁過濾裝置包括具有至少一段彎管或折彎處的過濾管道(1),所述過濾管道(1)兩端分別為用于安裝弧源組件(2)的入口端和用于與真空鍍膜腔室(3)相連接的供離子離開過濾管道(1)的出口端,所述過濾管道(1)上設(shè)有用于導(dǎo)引離子運動方向使弧源組件(2)產(chǎn)生的離子沿過濾管道(1)的形狀移動至出口端并從出口端離開的線圈模組;
弧源組件(2)設(shè)置于過濾管道(1)的入口端;
真空鍍膜腔室(3)設(shè)置有一個或一個以上數(shù)目的可與真空弧磁過濾裝置出口端連接的法蘭口;設(shè)置有一組及以上數(shù)目的可沉積金屬或化合物的沉積源;設(shè)置有等離子清洗裝置;設(shè)置有可加載生產(chǎn)物料的轉(zhuǎn)動夾盤;設(shè)置有可加載偏壓的偏壓電源;
其特征在于:所述過濾管道(1)接近出口端處設(shè)置有掃描磁場發(fā)生裝置(5);
所述掃描磁場發(fā)生裝置(5)包括鐵芯磁軛(501),所述鐵芯磁軛(501)上設(shè)有一對用于形成在過濾管道(1)出口端形成沿X軸方向的平行磁場的繞組線圈或設(shè)有兩對分別用于在過濾管道(1)出口端形成沿X軸方向的平行磁場和沿Y軸方向的平行磁場的獨立控制的繞組線圈。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掃描磁場導(dǎo)向沉積鍍膜的磁過濾真空沉積鍍膜設(shè)備,其特征在于:所述鐵芯磁軛(501)開設(shè)有一對相對設(shè)置的凹槽(502)使鐵芯磁軛(501)上形成兩個用于繞線形成繞組線圈的線圈骨架(503)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掃描磁場導(dǎo)向沉積鍍膜的磁過濾真空沉積鍍膜設(shè)備,其特征在于:所述鐵芯磁軛(501)包括四個沿同一圓周均勻分布的4個磁極(504)以及連接在相鄰磁極(504)之間的連接桿(505),所述磁極(504)或連接桿(505)上分別繞線形成繞組線圈。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掃描磁場導(dǎo)向沉積鍍膜的磁過濾真空沉積鍍膜設(shè)備,其特征在于:所述過濾管道(1)包括內(nèi)層殼體(101)和設(shè)置在內(nèi)層殼體(101)外的冷卻外殼體,所述冷卻外殼體內(nèi)設(shè)有冷卻水腔室(102),所述線圈模組和掃描磁場發(fā)生裝置(5)均固定在冷卻外殼體的外壁;所述冷卻外殼體包括內(nèi)外套接且兩者之間相隔一定間距的第一冷卻殼體(103)和第二冷卻殼體(104),所述第一冷卻殼體(103)和第二冷卻殼體(104)兩端之間分別通過入口端法蘭(105)和出口端法蘭(106)連接封閉形成冷卻水腔室(102);所述第一冷卻殼體(103)和第二冷卻殼體(104)之間局部設(shè)有連接筋條(107)。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的掃描磁場導(dǎo)向沉積鍍膜的磁過濾真空沉積鍍膜設(shè)備,其特征在于:所述過濾管道(1)包括接近入口端的第一直管區(qū)、接近出口端的第二直管區(qū),所述第一直管區(qū)與第二直管區(qū)之間直接相連使過濾管道(1)上形成一處折彎處;和/或,所述過濾管道(1)包括接近入口端的第一直管區(qū)、接近出口端的第二直管區(qū),通過至少一個中心線與第一直管區(qū)中心線角度以及第二直管區(qū)中心線角度均不同的過渡直管區(qū)和/或至少一個過渡彎管區(qū)連接過渡使過濾管道(1)上形成至少兩處的折彎處;所述過濾管道的彎管角度和/或多處折彎處夾角之和大于等于90度。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掃描磁場導(dǎo)向沉積鍍膜的磁過濾真空沉積鍍膜設(shè)備,其特征在于:所述過濾管道內(nèi)的中心線角度不同的第一直管區(qū)與過渡直管區(qū)和/或過渡彎管區(qū)之間通過絕緣組件連接,靠近弧源處的第一直管區(qū)與過渡直管區(qū)和/或過渡彎管區(qū)與弧電源正極、腔殼同電位;靠近過濾管道出口端的第二直管區(qū)電位為懸浮電位。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掃描磁場導(dǎo)向沉積鍍膜的磁過濾真空沉積鍍膜設(shè)備,其特征在于:所述線圈模組包括接近入口端的第一聚焦線圈(401)、接近出口端的第二聚焦線圈(403)以及設(shè)置在第一聚焦線圈(401)與第二聚焦線圈(403)之間的至少一個引導(dǎo)線圈(402)。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





