[發(fā)明專利]用于借助于數(shù)字計(jì)算機(jī)進(jìn)行的機(jī)器學(xué)習(xí)實(shí)現(xiàn)的微對(duì)象密度分布控制的系統(tǒng)和方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202111535924.8 | 申請(qǐng)日: | 2021-12-15 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN114637196A | 公開(kāi)(公告)日: | 2022-06-17 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | I·馬泰;J·德克利爾;C·索馬里基斯 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 帕洛阿爾托研究中心公司 |
| 主分類號(hào): | G05B13/04 | 分類號(hào): | G05B13/04;G06N20/00 |
| 代理公司: | 中國(guó)專利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 呂傳奇 |
| 地址: | 美國(guó)加利*** | 國(guó)省代碼: | 暫無(wú)信息 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 用于 借助于 數(shù)字計(jì)算機(jī) 進(jìn)行 機(jī)器 學(xué)習(xí) 實(shí)現(xiàn) 對(duì)象 密度 分布 控制 系統(tǒng) 方法 | ||
1.一種用于借助于數(shù)字計(jì)算機(jī)進(jìn)行的微對(duì)象密度分布控制的系統(tǒng),包括:
一個(gè)或多個(gè)處理器,所述一個(gè)或多個(gè)處理器被配置為執(zhí)行計(jì)算機(jī)可執(zhí)行代碼,所述處理器被配置為:
獲得用于定位多個(gè)微對(duì)象的系統(tǒng)的一個(gè)或多個(gè)參數(shù),所述系統(tǒng)包括多個(gè)可編程電極,所述電極被配置為在由所述電極中的一個(gè)或多個(gè)電極生成一個(gè)或多個(gè)電勢(shì)后在所述微對(duì)象接近所述電極時(shí)誘導(dǎo)所述微對(duì)象的移動(dòng);
基于所述系統(tǒng)的所述參數(shù)限定描述由于基于電容的相互作用而引起的微對(duì)象密度隨時(shí)間推移的變化的模型;
使用至少一個(gè)傳感器來(lái)估計(jì)所述微對(duì)象的密度分布;
接收所述微對(duì)象的目標(biāo)密度分布;
執(zhí)行模型預(yù)測(cè)控制(MPC)優(yōu)化以基于所述密度模型來(lái)導(dǎo)出所述電極電勢(shì)的序列,所述電極電勢(shì)的所述序列將由所述電極中的至少一些電極生成以用于移動(dòng)所述微對(duì)象中的至少一些微對(duì)象,從而最小化所估計(jì)的密度分布與所述目標(biāo)密度分布之間的誤差;
致動(dòng)所述電極中的至少一些電極以生成所述電極電勢(shì)的所述序列。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng),還包括:
基于所述參數(shù)來(lái)限定用于移動(dòng)所述微對(duì)象中的一個(gè)微對(duì)象的模型的離散表示;
將移動(dòng)模型的所述離散表示變換成連續(xù)表示;以及
將平均場(chǎng)近似應(yīng)用于所述模型的所述連續(xù)表示以獲得所述密度模型。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的系統(tǒng),還包括:
執(zhí)行所述電極與所述微對(duì)象中的一個(gè)微對(duì)象之間的所述電容的多個(gè)模擬;以及
限定包括在所述移動(dòng)模型中的函數(shù),并且將所述微對(duì)象與所述電極中的每個(gè)電極之間的所述電容描述為所述微對(duì)象與所述電極之間的距離的函數(shù)。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的系統(tǒng),其中所述移動(dòng)模型描述在一維和兩維中的至少一者中的所述移動(dòng)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng),其中使用Kullback-Leibler散度來(lái)表達(dá)所估計(jì)的密度分布與所述目標(biāo)密度分布之間的所述誤差。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng),其中執(zhí)行所述MPC優(yōu)化包括執(zhí)行自動(dòng)微分以計(jì)算多個(gè)梯度。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng),其中執(zhí)行所述MPC優(yōu)化包括使用高斯-埃爾米特求積來(lái)評(píng)估至少一個(gè)期望。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng),其中所述處理器包括一個(gè)或多個(gè)圖形處理單元(GPU)和一個(gè)或多個(gè)張力處理單元(TPU)中的至少一者。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的系統(tǒng),其中所述處理器中的兩個(gè)或更多個(gè)處理器并行工作以執(zhí)行所述MPC優(yōu)化。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng),其中所述電極由光電晶體管控制,所述一個(gè)或多個(gè)處理器被進(jìn)一步配置為:
將所述序列中的所述電極電勢(shì)映射到多個(gè)圖像;
控制視頻投影儀以將所述圖像投影到所述光電晶體管,其中所述光電晶體管控制所述電極以基于所投影的圖像來(lái)生成所述電極電勢(shì)的所述序列。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于帕洛阿爾托研究中心公司,未經(jīng)帕洛阿爾托研究中心公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
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