[發明專利]一種用于透明軟標基材的彩色再轉印膜

有效

• 申請號: 202111534499.0
• 申請日: 2021-12-15
• 公開（公告）號: CN114211894B
• 公開（公告）日: 2023-04-07
• 發明（設計）人: 汪鑫;吳興澤;段文欣;唐國初
• 申請（專利權）人: 湖南鼎一致遠科技發展有限公司
• 主分類號: B41M5/40
• 分類號: B41M5/40;C08J7/04;C08L67/02;C09D167/00;C09D127/06;C09D7/42
• 代理公司: 北京輕創知識產權代理有限公司 11212
• 代理人: 何佩英

1.一種用于透明軟標基材的彩色再轉印膜，其特征在于，包括自上而下依次貼合設置的基底（1）、保護層（2）和圖案接收層（3）；

所述保護層（2）由以下重量份數的原料涂布而成：第一樹脂50-90份和顏料10-50份；

所述圖案接收層（3）由以下重量份數的原料涂布而成：第二樹脂99份和消光粉1份；

所述第一樹脂包括聚酯樹脂、丙烯酸樹脂、醛酮樹脂、醇酸樹脂、聚乙烯醇中的一種或兩種以上的混合物；

所述第二樹脂包括聚氯乙烯、聚乙酸乙烯酯、氯乙烯-乙酸乙烯酯共聚物和聚丙烯酸酯中的一種或兩種以上的混合物。

2.根據權利要求?1所述的用于透明軟標基材的彩色再轉印膜，其特征在于，所述第一樹脂還包括助劑。

3.根據權利要求?1?所述的用于透明軟標基材的彩色再轉印膜，其特征在于，所述基底（1）為聚丙烯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚乙烯、聚乙烯醇、聚甲基丙烯酸甲酯中的一種。

4.根據權利要求?1?所述的用于透明軟標基材的彩色再轉印膜，其特征在于，所述基底（1）的厚度為12-125μm，所述保護層（2）的厚度為0.5-5μm，所述圖案接收層（3）的厚度為1.5-15μm。

5.根據權利要求?1?所述的用于透明軟標基材的彩色再轉印膜，其特征在于，所述消光粉為氣硅粒子，粒徑為1-10μm。

6.根據權利要求?1-5?任一項所述的用于透明軟標基材的彩色再轉印膜的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：

S1：提供一基底（1），在所述基底（1）的一面打上電暈；

S2：將第一樹脂50-90份溶于丁酮、甲苯溶劑中，然后加入顏料10-50份和少量助劑，研磨得到保護層涂料；

S3：將步驟S2得到的保護層涂料涂布在步驟S1的所述基底（1）打電暈一面上，涂布完成后烘干，得到保護層（2）；

S4：將第二樹脂99份溶于丁酮、甲苯溶劑中，然后加入消光粉1份，攪拌混合得到接收層涂料；

S5：將步驟S4得到的接收層涂料涂布在保護層（2）遠離基底（1）一側上，涂布完成后烘干，得到彩色再轉印膜。

7.根據權利要求?6?所述的用于透明軟標基材的彩色再轉印膜，其特征在于，步驟S3中，烘干的溫度為60-120℃。

8.根據權利要求?6?所述的用于透明軟標基材的彩色再轉印膜，其特征在于，步驟S5中，烘干的溫度為90-150℃。