[發明專利]均值濾波方法及系統在審
| 申請號: | 202111524209.4 | 申請日: | 2021-12-14 |
| 公開(公告)號: | CN114399447A | 公開(公告)日: | 2022-04-26 |
| 發明(設計)人: | 麥志楊;郭佳佳;麥浩晃;劉立峰 | 申請(專利權)人: | 昂視工業技術(深圳)有限公司 |
| 主分類號: | G06T5/20 | 分類號: | G06T5/20;G06T7/136;G06T7/00 |
| 代理公司: | 深圳市瑞方達知識產權事務所(普通合伙) 44314 | 代理人: | 沈紅曼 |
| 地址: | 518000 廣東省深圳市福田區園嶺*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 均值 濾波 方法 系統 | ||
1.一種均值濾波方法,其特征在于,包括以下步驟:
S1:獲得檢測區域圖像R、濾波核寬度width和濾波核高度height;
S2:遍歷所述檢測區域圖像R內需要檢測的區域的像素點;
S3:以當前所述像素點為錨點,建立濾波核寬度width和濾波核高度height大小的矩形檢測框,按每行每列遍歷所述矩形檢測框中的像素坐標,判斷所述像素坐標是否在所述需要檢測的區域內,若是,則執行步驟S4;若否,則遍歷所述矩形檢測框中的下一個像素坐標;直至遍歷完一個像素點的矩形檢測框后,執行步驟S5;
S4:將所述像素坐標的像素灰度值和點數進行累加,得到總像素灰度值sum和總點數number;
S5:將總像素灰度值除以總點數得到均值,并直至遍歷完所述檢測區域圖像R內需要檢測的區域的像素點,得到最終的均值圖M。
2.根據權利要求1所述的均值濾波方法,其特征在于,所述步驟S1還包括獲得待處理的原圖像G;
獲得檢測區域圖像R,包括:
在所述原圖像G中確定任意位置任意形狀的需要檢測的區域,并將所述需要檢測的區域的像素灰度值轉換為預設值,其他區域的像素灰度值轉換為0,得到所述檢測區域圖像R。
3.根據權利要求2所述的均值濾波方法,其特征在于,所述步驟S2包括:
S21:計算所述檢測區域圖像R內需要檢測的區域的最小外接平行矩形區域,并在所述檢測區域圖像R內進行截取;
S22:遍歷所述矩形區域中的像素點,判斷所述像素點是否在所述需要檢測的區域內,若是,則執行步驟S3,若否,則遍歷下一個像素點。
4.根據權利要求3所述的均值濾波方法,其特征在于,所述步驟S21之前還包括:
S20:判斷所述檢測區域圖像R內需要檢測的區域在所述檢測區域圖像R大小內的占比是否小于閾值,若是,則記錄所述需要檢測的區域的像素點,并執行步驟S3、S4和S5;若否,則執行步驟S21。
5.根據權利要求3所述的均值濾波方法,其特征在于,在所述檢測區域圖像R內進行截取,包括:
根據所述矩形區域并以所述原圖像G為坐標參照,在所述檢測區域圖像R內截取所述矩形區域。
6.根據權利要求3所述的均值濾波方法,其特征在于,判斷所述像素點或所述像素坐標是否在所述需要檢測的區域內,包括:
判斷所述像素點或所述像素坐標的像素灰度值是否為預設值。
7.根據權利要求3所述的均值濾波方法,其特征在于,所述步驟S3還包括:
判斷所述像素坐標是否超出所述矩形區域,并同時判斷所述像素坐標是否在所述需要檢測的區域內,若是,則執行步驟S4;若否,則遍歷所述矩形檢測框中的下一個像素坐標。
8.根據權利要求3所述的均值濾波方法,其特征在于,所述步驟S3還包括:
將所述矩形區域的左右邊界各向外擴展(width-1)/2個像素,上下邊界各向外擴展(height-1)/2個像素。
9.根據權利要求1所述的均值濾波方法,其特征在于,所述方法還包括:S6:輸出均值圖M。
10.一種均值濾波系統,其特征在于,包括:
獲得模塊,用于獲得檢測區域圖像R、濾波核寬度width和濾波核高度height;
遍歷模塊,用于遍歷所述檢測區域圖像R內需要檢測的區域的像素點;
檢測模塊,用于以當前所述像素點為錨點,建立濾波核寬度width和濾波核高度height大小的矩形檢測框,按每行每列遍歷所述矩形檢測框中的像素坐標,判斷所述像素坐標是否在所述需要檢測的區域內,若是,則執行累加計算模塊;若否,則遍歷所述矩形檢測框中的下一個像素坐標;直至遍歷完一個像素點的矩形檢測框后,執行均值計算模塊;
累加計算模塊,用于將所述像素坐標的像素灰度值和點數進行累加,得到總像素灰度值sum和總點數number;
均值計算模塊,用于將總像素灰度值除以總點數得到均值,并直至遍歷完所述檢測區域圖像R內需要檢測的區域的像素點,得到最終的均值圖M。
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