[發(fā)明專利]一種顯示面板及顯示終端在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202111523004.4 | 申請日: | 2021-12-13 |
| 公開(公告)號: | CN114120842A | 公開(公告)日: | 2022-03-01 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 李麗丹 | 申請(專利權(quán))人: | 武漢華星光電半導(dǎo)體顯示技術(shù)有限公司 |
| 主分類號: | G09F9/30 | 分類號: | G09F9/30 |
| 代理公司: | 深圳紫藤知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44570 | 代理人: | 楊瑞 |
| 地址: | 430079 湖北省武漢市東湖新技術(shù)*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 顯示 面板 終端 | ||
1.一種顯示面板,其特征在于,包括:
顯示面板本體,包括至少一彎折部和非彎折部;
剛性支撐層,設(shè)置于所述顯示面板本體的背側(cè),所述剛性支撐層包括對應(yīng)于所述彎折部的圖案部,以及對應(yīng)于所述非彎折部的平坦部;
其中,所述圖案部包括至少一個(gè)凹槽和多個(gè)離散的支撐島,所述支撐島位于所述凹槽內(nèi),所述支撐島的表面和所述平坦部遠(yuǎn)離所述顯示面板本體的表面平齊。
2.如權(quán)利要求1所述的顯示面板,其特征在于,所述剛性支撐層還包括填充部,
所述填充部填充于所述凹槽,且所述填充部遠(yuǎn)離所述剛性支撐層的表面與所述平坦部的表面平齊,所述填充部的材料的彈性模量小于所述剛性支撐層的彈性模量。
3.如權(quán)利要求1或2所述的顯示面板,其特征在于,所述凹槽的深度為所述剛性支撐層的厚度的1/3至2/3。
4.如權(quán)利要求1至3任一項(xiàng)所述的顯示面板,其特征在于,所述圖案部包括多個(gè)所述凹槽,多個(gè)所述支撐島均勻排布。
5.如權(quán)利要求4所述的顯示面板,其特征在于,每一所述凹槽沿平行于彎折軸的方向貫穿所述剛性支撐層。
6.如權(quán)利要求1至3任一項(xiàng)所述的顯示面板,其特征在于,所述凹槽的截面形狀包括正方形、矩形、三角形、梯形、半圓形、半橢圓形中的一種或多種的組合。
7.如權(quán)利要求1或2所述的顯示面板,其特征在于,所述顯示面板本體包括第一彎折部和第二彎折部,所述第一彎折部的彎折軸與所述第二彎折部的彎折軸交叉,所述圖案部包括第一子圖案部和第二子圖案部,所述第一子圖案部與所述第一彎折部對應(yīng),所述第二子圖案部與所述第二彎折部對應(yīng)。
8.如權(quán)利要求7所述的顯示面板,其特征在于,所述第一彎折部的彎折軸與所述第二彎折部的彎折軸相互垂直。
9.如權(quán)利要求7所述的顯示面板,其特征在于,所述第一子圖案部包括第一凹槽和第一支撐島,所述第二子圖案部包括第二凹槽和第二支撐島;
所述第一凹槽和所述第二凹槽在所述第一子圖案部和所述第二子圖案部的相交部位相互連接。
10.如權(quán)利要求9所述的顯示面板,其特征在于,所述第一子圖案部關(guān)于所述第一彎折部的彎折軸呈軸對稱;
所述第二子圖案部關(guān)于所述第二彎折部的彎折軸呈軸對稱。
11.如權(quán)利要求10所述的顯示面板,其特征在于,所述第一支撐島的形狀與所述第二支撐島的形狀相同。
12.如權(quán)利要求10所述的顯示面板,其特征在于,所述第一支撐島和所述第二支撐島均關(guān)于所述第一彎折部的彎折軸呈軸對稱形狀;
所述第一支撐島和所述第二支撐島均關(guān)于所述第二彎折部的彎折軸呈軸對稱形狀。
13.如權(quán)利要求10所述的顯示面板,其特征在于,所述第一子圖案部呈中心對稱結(jié)構(gòu),所述第二子圖案部呈中心對稱結(jié)構(gòu)。
14.如權(quán)利要求1或2所述的顯示面板,其特征在于,所述凹槽位于所述剛性支撐層遠(yuǎn)離所述顯示面板本體的一側(cè)。
15.如權(quán)利要求2所述的顯示面板,其特征在于,所述填充部的材料為熱熔膠。
16.一種顯示終端,其特征在于,包括終端主體和如權(quán)利要求1至15任一項(xiàng)所述的顯示面板,所述終端主體與所述顯示面板組合為一體。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于武漢華星光電半導(dǎo)體顯示技術(shù)有限公司,未經(jīng)武漢華星光電半導(dǎo)體顯示技術(shù)有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202111523004.4/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。





