[發(fā)明專利]單光子雪崩二極管和光電探測(cè)器陣列在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202111509995.0 | 申請(qǐng)日: | 2021-12-10 |
| 公開(公告)號(hào): | CN114203852A | 公開(公告)日: | 2022-03-18 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 馬靜;蘭瀟健;劉超暉;馬四光 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 季華實(shí)驗(yàn)室 |
| 主分類號(hào): | H01L31/107 | 分類號(hào): | H01L31/107;H01L31/0288 |
| 代理公司: | 北京開陽(yáng)星知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11710 | 代理人: | 姚金金 |
| 地址: | 528200 廣東省*** | 國(guó)省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 光子 雪崩 二極管 光電 探測(cè)器 陣列 | ||
1.一種單光子雪崩二極管,其特征在于,包括:非平面PN結(jié);
所述非平面PN結(jié)由第一類型外延層和第二類型摻雜區(qū)銜接而成;
所述第一類型外延層和所述第二類型摻雜區(qū)的銜接面為非平面;
其中,所述第一類型和所述第二類型分別為P型和N型中的一種。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的單光子雪崩二極管,其特征在于,非平面包括半球形、橢球形、鋸齒形以及波浪形中的至少一種。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的單光子雪崩二極管,其特征在于,在所述銜接面處,中間區(qū)域的摻雜濃度大于周邊區(qū)域的摻雜濃度。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的單光子雪崩二極管,其特征在于,所述中間區(qū)域的摻雜濃度與所述周邊區(qū)域的摻雜濃度相差1~2個(gè)數(shù)量級(jí)。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的單光子雪崩二極管,其特征在于,沿所述中間區(qū)域指向所述周邊區(qū)域的方向,摻雜濃度逐漸減小。
6.根據(jù)權(quán)利要求1-5任一項(xiàng)所述的單光子雪崩二極管,其特征在于,還包括第二類型導(dǎo)電襯底;
所述第一類型外延層設(shè)置于所述第二類型導(dǎo)電襯底上;
所述第二類型摻雜區(qū)被所述第一類型外延層包裹;
在所述第二類型摻雜區(qū)內(nèi)設(shè)置第二類型重?fù)诫s區(qū),所述第二類型重?fù)诫s區(qū)連接第二電極;
在所述第一類型外延層內(nèi),環(huán)繞所述第二類型摻雜區(qū)設(shè)置第一類型重?fù)诫s區(qū),所述第一類型重?fù)诫s區(qū)連接第一電極。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的單光子雪崩二極管,其特征在于,所述第二類型摻雜區(qū)的摻雜濃度低于所述第二類型重?fù)诫s區(qū)的摻雜濃度。
8.一種光電探測(cè)器陣列,其特征在于,包括權(quán)利要求1-7任一項(xiàng)所述的單光子雪崩二極管;
所述單光子雪崩二極管陣列排布。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的光電探測(cè)器陣列,其特征在于,位于同一行和/或同一列的各所述單光子雪崩二極管中的非平面PN結(jié)的形狀相同。
10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的光電探測(cè)器陣列,其特征在于,所有所述單光子雪崩二極管中的非平面PN結(jié)的形狀均相同。
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- 專利分類
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對(duì)紅外輻射、光、較短波長(zhǎng)的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或者專門適用于通過(guò)這樣的輻射進(jìn)行電能控制的半導(dǎo)體器件;專門適用于制造或處理這些半導(dǎo)體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導(dǎo)體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉(zhuǎn)換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過(guò)該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個(gè)共用襯底內(nèi)或其上形成的,一個(gè)或多個(gè)電光源,如場(chǎng)致發(fā)光光源在結(jié)構(gòu)上相連的,并與其電光源在電氣上或光學(xué)上相耦合的
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