[發(fā)明專利]蒸鍍?cè)醇罢翦冊(cè)O(shè)備

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202111509843.0
• 申請(qǐng)日: 2021-12-10
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN114182208A
• 公開(kāi)（公告）日: 2022-03-15
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 孫凌霄
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 深圳市華星光電半導(dǎo)體顯示技術(shù)有限公司
• 主分類號(hào): C23C14/24
• 分類號(hào): C23C14/24
• 代理公司: 深圳紫藤知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44570
• 代理人: 汪阮磊

1.一種蒸鍍?cè)矗涮卣髟谟冢渚哂幸坏谝粶囟葏^(qū)一第二溫度區(qū)；

所述蒸鍍?cè)窗ǎ?/p>

熱反射罩，環(huán)繞一容器設(shè)置，并位于所述第一溫度區(qū)中；

加熱裝置，設(shè)于所述熱反射罩的外側(cè)。

2.如權(quán)利要求1所述的蒸鍍?cè)矗涮卣髟谟冢鰺岱瓷湔职ǎ?/p>

主體部，對(duì)應(yīng)于所述第一溫度區(qū)；

鏤空部，與所述主體部相連，并對(duì)應(yīng)于所述第二溫度區(qū)；

所述鏤空部的熱反射面積小于所述主體部的熱反射面積。

3.如權(quán)利要求2所述的蒸鍍?cè)矗涮卣髟谟冢鰺岱瓷湔稚暇哂腥舾社U空結(jié)構(gòu)，所述鏤空結(jié)構(gòu)均勻分布在所述鏤空部，并貫穿所述熱反射罩。

4.如權(quán)利要求1所述的蒸鍍?cè)矗涮卣髟谟冢黾訜嵫b置包括：

隔熱罩，其具有一容腔，所述容器和所述熱反射罩置于所述容腔內(nèi)；

加熱絲，設(shè)于所述容腔的側(cè)壁上。

5.如權(quán)利要求4所述的蒸鍍?cè)矗涮卣髟谟冢黾訜峤z在所述第二溫度區(qū)中的分布密度小于其在所述第一溫度區(qū)中的分布密度。

6.如權(quán)利要求1所述的蒸鍍?cè)矗涮卣髟谟冢鋈萜骶哂幸怀隽峡冢龀隽峡谠O(shè)于所述容器的頂部。

7.如權(quán)利要求1所述的蒸鍍?cè)矗涮卣髟谟冢龅诙囟葏^(qū)中所述容器內(nèi)的溫度小于所述第一溫度區(qū)中所述容器內(nèi)的溫度。

8.如權(quán)利要求1所述的蒸鍍?cè)矗涮卣髟谟冢鰺岱瓷湔值牟牧现泻薪饘冁u。

9.如權(quán)利要求4所述的蒸鍍?cè)矗涮卣髟谟冢黾訜峤z的材料中含有金屬鉬。

10.一種蒸鍍?cè)O(shè)備，其特征在于，包括如權(quán)利要求1-9中任意一項(xiàng)所述的蒸鍍?cè)础?/p>