[發明專利]一種基于電磁超材料的射頻微系統

在審

• 申請號: 202111495587.4
• 申請日: 2021-12-08
• 公開（公告）號: CN114171468A
• 公開（公告）日: 2022-03-11
• 發明（設計）人: 安慧林;李君;周云燕;張文雯;元健
• 申請（專利權）人: 華進半導體封裝先導技術研發中心有限公司;上海先方半導體有限公司
• 主分類號: H01L23/31
• 分類號: H01L23/31;H01L23/552
• 代理公司: 上海智晟知識產權代理事務所(特殊普通合伙) 31313
• 代理人: 張東梅

1.一種基于電磁超材料的射頻微系統，其特征在于，包括：

腔室；

電磁輻射源，其布置于所述腔室中，其中所述電磁輻射源被配置為產生電磁輻射；

熱輻射源，其布置于所述腔室中，其中所述熱輻射源被配置為產生熱輻射；以及

電磁超材料層，其被配置為吸收電磁輻射以及熱輻射。

2.根據權利要求1所述的基于電磁超材料的射頻微系統，其特征在于，所述電磁輻射源包括芯片以及打線。

3.根據權利要求2所述的基于電磁超材料的射頻微系統，其特征在于，所述熱輻射源包括芯片。

4.根據權利要求1所述的基于電磁超材料的射頻微系統，其特征在于，所述電磁輻射源和所述熱輻射源布置于所述腔室的底部，并且所述電磁超材料層布置于所述腔室的頂部。

5.根據權利要求1所述的基于電磁超材料的射頻微系統，其特征在于，所述電磁超材料層包括：

基板：

屏蔽金屬層，其布置在所述基板的第一側，所述屏蔽金屬層被配置為屏蔽電磁輻射以及熱輻射；以及

電磁超材料吸波單元，其布置在所述基板的第二側，所述電磁超材料吸波單元包括：

電磁輻射吸收單元，其被配置為吸收電磁輻射；以及

熱輻射吸收單元，其被配置為吸收熱輻射。

6.根據權利要求5所述的基于電磁超材料的射頻微系統，其特征在于，包括多個所述電磁超材料吸波單元，其中多個所述電磁超材料吸波單元循環排列布置。

7.根據權利要求1所述的基于電磁超材料的射頻微系統，其特征在于，包括硅通孔、球柵陣列以及阻容器件。

8.根據權利要求1所述的基于電磁超材料的射頻微系統，其特征在于，所述電磁超材料層被配置為在大于等于3GHz的頻率波段上吸收率大于等于80％的電磁輻射和熱輻射。