[發(fā)明專利]低操作力的電阻式觸摸屏組件及其制造方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202111490221.8 | 申請日: | 2021-12-08 |
| 公開(公告)號: | CN114153329A | 公開(公告)日: | 2022-03-08 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 平冠軍;余蘭;陳磊 | 申請(專利權(quán))人: | 黃石瑞視光電技術(shù)股份有限公司 |
| 主分類號: | G06F3/041 | 分類號: | G06F3/041;G06F3/045 |
| 代理公司: | 湖北維智聯(lián)科知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 42291 | 代理人: | 陳鴻偉 |
| 地址: | 435000 湖北省*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 操作 電阻 觸摸屏 組件 及其 制造 方法 | ||
1.一種低操作力的電阻式觸摸屏組件,其特征在于,包括PET層、光學(xué)膠層和ITO層,所述ITO層為PET基材的ITO膜;所述PET層與所述ITO層通過所述光學(xué)膠層貼合連接;所述PET層、光學(xué)膠層和ITO層的總厚度不超過0.19mm。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的低操作力的電阻式觸摸屏組件,其特征在于,所述PET層的表面還設(shè)有硬化層。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的低操作力的電阻式觸摸屏組件,其特征在于,所述硬化層為二氧化硅硬化層。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的低操作力的電阻式觸摸屏組件,其特征在于,所述PET和所述ITO層的周側(cè)設(shè)有防靜電層。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的低操作力的電阻式觸摸屏組件,其特征在于,還包括玻璃層和偏振層,所述玻璃層與所述PET層之間設(shè)置有所述偏振層。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的低操作力的電阻式觸摸屏組件,其特征在于,所述光學(xué)膠層由若干個均勻分布在所述PET層和所述ITO層之間的膠塊組成。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的低操作力的電阻式觸摸屏組件,其特征在于,所述PET層和所述ITO層的透光率均大于或等于95%。
8.一種低操作力的電阻式觸摸屏組件的制造方法,其特征在于,用于制造如權(quán)利要求1~7中任一項所述的低操作力的電阻式觸摸屏組件,包括下列步驟:
將裁剪得到的PET膜進行預(yù)收縮處理;
將處理后的所述PET膜進行清洗,在PET膜的雙面貼附保護膜;
分別掀去ITO膜和所述PET膜的貼合面上的保護膜,將所述ITO膜與所述PET膜通過光學(xué)膠貼合,得到包括PET層、光學(xué)膠層和ITO層的低操作力的電阻式觸摸屏組件。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的低操作力的電阻式觸摸屏組件的制造方法,其特征在于,所述將裁剪得到的PET膜進行預(yù)收縮處理的步驟,包括:將所述PET膜在120~140℃下,保溫30~60分鐘。
10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的低操作力的電阻式觸摸屏組件的制造方法,其特征在于,所述將處理后的所述PET膜進行清洗的步驟,包括:清洗的試劑溫度為25~35℃,清洗時間為2~4分鐘。
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G06F 電數(shù)字數(shù)據(jù)處理
G06F3-00 用于將所要處理的數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)變成為計算機能夠處理的形式的輸入裝置;用于將數(shù)據(jù)從處理機傳送到輸出設(shè)備的輸出裝置,例如,接口裝置
G06F3-01 .用于用戶和計算機之間交互的輸入裝置或輸入和輸出組合裝置
G06F3-05 .在規(guī)定的時間間隔上,利用模擬量取樣的數(shù)字輸入
G06F3-06 .來自記錄載體的數(shù)字輸入,或者到記錄載體上去的數(shù)字輸出
G06F3-09 .到打字機上去的數(shù)字輸出
G06F3-12 .到打印裝置上去的數(shù)字輸出





