[發(fā)明專利]一種超薄金屬鋰箔及其制備方法和應(yīng)用

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202111486937.0
• 申請(qǐng)日: 2021-12-07
• 公開（公告）號(hào): CN114150246A
• 公開（公告）日: 2022-03-08
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 汪東煌;李晶澤;周愛軍
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 電子科技大學(xué)長三角研究院（湖州）
• 主分類號(hào): C23C2/04
• 分類號(hào): C23C2/04;C23C2/02;C23C2/40;C23C2/00;H01M4/38;H01M4/134;H01M4/1395
• 代理公司: 北京正華智誠專利代理事務(wù)所(普通合伙) 11870
• 代理人: 楊浩林

1.一種超薄金屬鋰箔的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：采用浸漬提拉的方式將預(yù)熱后的基底材料勻速通過熔融狀態(tài)的金屬鋰，冷卻，得到超薄金屬鋰箔。

2.如權(quán)利要求1所述的超薄金屬鋰箔的制備方法，其特征在于，所述基底材料為鋁箔、銅箔、涂炭鋁箔、涂炭銅箔、不銹鋼箔、鎳箔、鈦箔、碳布或碳?xì)帧?/p>

3.如權(quán)利要求1所述的超薄金屬鋰箔的制備方法，其特征在于，所述熔融狀態(tài)的金屬鋰和所述預(yù)熱后的基底材料的溫度相同。

4.如權(quán)利要求3所述的超薄金屬鋰箔的制備方法，其特征在于，浸漬提拉時(shí)，所述熔融狀態(tài)的金屬鋰和所述預(yù)熱后的基底材料的溫度均為200～700℃。

5.如權(quán)利要求1所述的超薄金屬鋰箔的制備方法，其特征在于，浸漬提拉時(shí)，基底材料與水平方向的傾斜角度為2～90度，基底材料的提拉速度為0.01mm/s～1m/s，基底材料的浸漬深度為0.1cm-20cm。

6.權(quán)利要求1～5任一項(xiàng)所述的超薄金屬鋰箔的制備方法制得的超薄金屬鋰箔。

7.如權(quán)利要求6所述的超薄金屬鋰箔，其特征在于，所述超薄金屬鋰箔的厚度為3～100μm。

8.權(quán)利要求6或7所述的超薄金屬鋰箔在用作和/或制備鋰離子電池負(fù)極材料中的應(yīng)用。

9.一種鋰離子電池，其特征在于，采用權(quán)利要求6或7所述超薄金屬鋰箔作為負(fù)極材料。

10.一種制備權(quán)利要求6或7所述的超薄金屬鋰箔的生產(chǎn)系統(tǒng)，其特征在于，包括依次連接的放卷裝置、浸漬提拉裝置和收卷裝置，放卷裝置和浸漬提拉裝置之間設(shè)置有基底預(yù)熱裝置，浸漬提拉裝置和收卷裝置之間設(shè)置有冷卻裝置，浸漬提拉裝置的下方設(shè)置有熔融鋰加熱裝置。