[發(fā)明專利]一種針對(duì)二次曲面反射鏡的拋光制備方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202111465697.6
• 申請(qǐng)日: 2021-12-03
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN114102340B
• 公開(kāi)（公告）日: 2023-03-14
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 孫潔斐;高凡;李忠;熊濤;伊博;李通;羅耀明
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 湖北久之洋紅外系統(tǒng)股份有限公司
• 主分類號(hào): B24B13/00
• 分類號(hào): B24B13/00;B24B1/00
• 代理公司: 湖北武漢永嘉專利代理有限公司 42102
• 代理人: 許美紅;劉洋

1.一種針對(duì)二次曲面反射鏡的拋光制備方法，其特征在于包括以下步驟：

(1)采用彈性氣囊拋光技術(shù)進(jìn)行預(yù)拋光，去除銑磨過(guò)程中砂輪與零件因直接剛性接觸給零件表面帶來(lái)的不規(guī)則的凹凸破壞層與裂紋層；

(2)采用高穩(wěn)定性氣囊拋光技術(shù)進(jìn)行2D拋光，修正預(yù)拋光過(guò)程中形成的對(duì)稱誤差；面形采用接觸式輪廓儀檢測(cè)；拋光加工的參數(shù)為：聚氨酯拋光基底，厚度為1.2mm，工具軸轉(zhuǎn)速為600-800r/min，工件軸轉(zhuǎn)速為500-600r/min，去除率為0.1-0.3um/min，螺旋路徑；

(3)利用工件軸C軸、工具擺軸B軸、以及工具X、Y、Z軸五軸聯(lián)動(dòng)進(jìn)行3D拋光，修正預(yù)拋光過(guò)程中形成的非對(duì)稱誤差；面形采用干涉儀無(wú)像差點(diǎn)法檢測(cè)；拋光加工的參數(shù)為：聚氨酯拋光基底，厚度為1.2mm，工具軸轉(zhuǎn)速為400-600r/min，工件軸轉(zhuǎn)速為10-50r/min，去除率為0.02-0.1um/min，螺旋或柵格路徑；

(4)采用子孔徑瀝青拋光技術(shù)，進(jìn)行自適應(yīng)平滑拋光，在保證面形的前提下，降低鏡面的中高頻誤差；面形采用干涉儀無(wú)像差點(diǎn)法檢測(cè)；拋光加工的參數(shù)為：70#瀝青拋光基底，工具軸轉(zhuǎn)速為80-200r/min，工件軸轉(zhuǎn)速為10-50r/min，去除率為0.01-0.0.05um/min，螺旋或柵格路徑。

2.如權(quán)利要求1所述針對(duì)二次曲面反射鏡的拋光制備方法，其特征在于步驟1中粗糙度采用接觸式輪廓儀檢測(cè)；拋光加工的參數(shù)為：聚氨酯拋光基底，厚度為1.6mm，工具軸轉(zhuǎn)速為800-1000r/min，工件軸轉(zhuǎn)速為400-800r/min，去除率為0.3-0.5um/min，螺旋路徑。

3.如權(quán)利要求1所述針對(duì)二次曲面反射鏡的拋光制備方法，其特征在于步驟3和步驟4交互迭代進(jìn)行，使二次曲面反射鏡達(dá)到面形要求。