[發(fā)明專利]一種雙向硅控整流器在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202111461627.3 | 申請日: | 2021-12-02 |
| 公開(公告)號(hào): | CN114068525A | 公開(公告)日: | 2022-02-18 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 吳昊;陸亞斌 | 申請(專利權(quán))人: | 深圳傲威半導(dǎo)體有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L27/02 | 分類號(hào): | H01L27/02 |
| 代理公司: | 蘇州榮谷知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 32612 | 代理人: | 韓國輝 |
| 地址: | 518000 廣東省深圳市寶*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 雙向 整流器 | ||
1.一種雙向硅控整流器,包括:
襯底外延晶體;
硅控整流器區(qū)域,該硅控整流器區(qū)域位于襯底外延晶體上;
觸發(fā)區(qū)域,該觸發(fā)區(qū)域位于襯底外延晶體上;
其特征在于:
硅控整流器一端通過金屬連接至輸入端IO1,另一端通過金屬連接至輸出端IO2,形成IO1-IO2和IO2-IO1兩個(gè)方向的ESD和EOS保護(hù)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種雙向硅控整流器,其特征在于:
襯底外延晶體包含N型導(dǎo)電襯底及P型導(dǎo)電外延;
硅控整流器區(qū)域包含第一N型阱區(qū)、第二N型阱區(qū)及第一P型阱區(qū),第一P型阱區(qū)位于第一N型阱區(qū)和第二N型阱區(qū)之間;第一N型阱區(qū)中包含N型重?fù)诫s區(qū)和P型重?fù)诫s區(qū),N型重?fù)诫s區(qū)和P型重?fù)诫s區(qū)通過金屬相連,并連接至輸入端口IO1;第二N型阱區(qū)包含N型重?fù)诫s區(qū)和P型重?fù)诫s區(qū),N型重?fù)诫s區(qū)和P型重?fù)诫s區(qū)通過金屬相連,并連接至輸出端口IO2;
觸發(fā)區(qū)域包含兩個(gè)N型摻雜區(qū)和一個(gè)P型摻雜區(qū),N型摻雜區(qū)位于P型摻雜區(qū)兩側(cè),并且一個(gè)N型摻雜區(qū)與第一N型阱區(qū)相接,另一個(gè)N型摻雜區(qū)與第二N型阱區(qū)相接,P型摻雜區(qū)位于第一P型阱區(qū)上,并與N型摻雜區(qū)相接,且N型摻雜區(qū)和P型摻雜區(qū)均為浮空區(qū)域。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種雙向硅控整流器,其特征在于,該雙向硅控整流器還包括:
隔離結(jié)構(gòu),該隔離結(jié)構(gòu)位于襯底外延晶體中,其為填充SIO2或者多晶的深隔離槽,或?yàn)榻Y(jié)深較深的N型摻雜阱。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種雙向硅控整流器,其特征在于:
P型重?fù)诫s區(qū)域、N型阱區(qū)、P型阱區(qū)形成三極管PNP,N型阱區(qū)、P型阱區(qū)和N型阱區(qū)形成三極管NPN,P型阱區(qū)、N型和P型重?fù)诫s區(qū)形成另一三極管PNP。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種雙向硅控整流器,其特征在于:
觸發(fā)電壓由N型摻雜區(qū)和P型摻雜區(qū)所形成的二極管的雪崩電壓控制,N型摻雜區(qū)和P型摻雜區(qū)中至少一個(gè)區(qū)域?yàn)橹負(fù)诫s區(qū)。
6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種雙向硅控整流器,其特征在于:
以觸發(fā)區(qū)域中P型摻雜區(qū)為對(duì)稱軸,硅控整流器區(qū)域和觸發(fā)結(jié)區(qū)域?qū)ΨQ地分布其左右,其中硅控整流器區(qū)域?yàn)殚L條插指型,觸發(fā)結(jié)區(qū)域N型摻雜區(qū)和P型摻雜區(qū)均為分段塊狀。
7.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種雙向硅控整流器,其特征在于:
N型摻雜區(qū)對(duì)稱地位于P型摻雜區(qū)下方。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種雙向硅控整流器,其特征在于:
硅控整流器區(qū)域包含第一P型阱區(qū)和第二P型阱區(qū),第一N型阱區(qū);第一N型阱區(qū)位于第一P型阱區(qū)和第二P型阱區(qū)之間;第一P型阱區(qū)中包含N型重?fù)诫s區(qū)和P型重?fù)诫s區(qū),N型重?fù)诫s區(qū)和P型重?fù)诫s區(qū)通過金屬相連,并連接至輸入端口IO1;第二P型阱區(qū)中包含N型重?fù)诫s區(qū)和P型重?fù)诫s區(qū),N型重?fù)诫s區(qū)和P型重?fù)诫s區(qū)通過金屬相連,并連接至輸出端口IO2;其中P型阱區(qū)、N型阱區(qū)和P型阱區(qū)形成三極管PNP,N型重?fù)诫s區(qū)、P型阱區(qū)、N型阱區(qū)以及N型阱區(qū)、P型阱區(qū)、N型中摻雜區(qū)形成兩個(gè)三極管NPN;
觸發(fā)區(qū)域包含兩個(gè)P型摻雜區(qū)和一個(gè)N型摻雜區(qū),P型摻雜區(qū)位于N型摻雜區(qū)兩側(cè),并且一個(gè)P型摻雜區(qū)與第一P型阱區(qū)相接,另一個(gè)P型摻雜區(qū)與第二P型阱區(qū)相接,N型摻雜區(qū)位于第一N型阱區(qū)上,并與P型摻雜區(qū)相接,且P型摻雜區(qū)和N型摻雜區(qū)均為浮空區(qū)域。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的一種雙向硅控整流器,其特征在于:
觸發(fā)區(qū)域中的P型摻雜區(qū)對(duì)稱地位于P型摻雜區(qū)下方。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的一種雙向硅控整流器,其特征在于:
該雙向硅控整流器還包括淺槽隔離結(jié)構(gòu),該淺槽隔離結(jié)構(gòu)位于N型重?fù)诫s區(qū)與N型重?fù)诫s區(qū)之間。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個(gè)共用襯底內(nèi)或其上形成的多個(gè)半導(dǎo)體或其他固態(tài)組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導(dǎo)體組件并且至少有一個(gè)電位躍變勢壘或者表面勢壘的;包括至少有一個(gè)躍變勢壘或者表面勢壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對(duì)紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導(dǎo)體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發(fā)射并且包括至少有一個(gè)電位躍變勢壘或者表面勢壘的半導(dǎo)體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結(jié)點(diǎn)的熱電元件的;包括有熱磁組件的
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