[發(fā)明專利]一種線性真空干燥設(shè)備

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202111458815.0
• 申請(qǐng)日: 2021-12-01
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN114427779A
• 公開(kāi)（公告）日: 2022-05-03
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 楊星;李長(zhǎng)江;李偉;周文彬;李世磊
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 昆山晟成光電科技有限公司
• 主分類號(hào): F26B5/04
• 分類號(hào): F26B5/04;F26B15/12;F26B21/00;F26B25/00;B05D3/04
• 代理公司: 廣州市時(shí)代知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 44438
• 代理人: 申丹寧;李春榮

1.一種線性真空干燥設(shè)備，其特征在于，包括依次連通的上料區(qū)域、干燥區(qū)域和下料區(qū)域，以及用于控制所述上料區(qū)域、所述干燥區(qū)域和所述下料區(qū)域真空狀態(tài)的真空調(diào)控系統(tǒng)；

所述干燥區(qū)域包括依次相連通的前緩沖腔(3)、干燥腔(4)和后緩沖腔(6)，所述干燥腔(4)的腔內(nèi)設(shè)置有氣體噴淋系統(tǒng)(11)，所述干燥腔(4)腔內(nèi)的底部設(shè)置有加熱系統(tǒng)(12)；

所述氣體噴淋系統(tǒng)(11)包括呈間隔排列且相互交替重復(fù)設(shè)置的噴氣區(qū)(17)和抽氣區(qū)(18)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的線性真空干燥設(shè)備，其特征在于：所述噴氣區(qū)(17)和抽氣區(qū)(18)均包括數(shù)個(gè)氣口，所述抽氣區(qū)(18)相對(duì)于所述噴氣區(qū)(17)呈凹槽設(shè)置，所述氣口的直徑為0.5mm～5mm，所述凹槽的寬度為0.5mm～5mm，所述凹槽的長(zhǎng)度為1mm～1000mm。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的線性真空干燥設(shè)備，其特征在于：所述噴氣區(qū)(17)的有效噴氣區(qū)域長(zhǎng)度大于待干燥基板垂直于傳輸方向上的寬度，具體為大于1cm～10cm。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的線性真空干燥設(shè)備，其特征在于：所述氣體噴淋系統(tǒng)(11)固定于待干燥基板傳動(dòng)至所述干燥腔(4)后需干燥面的平行面，所述氣體噴淋系統(tǒng)(11)的底面與待干燥基板上表面兩平行面的距離為2mm～200mm。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的線性真空干燥設(shè)備，其特征在于：所述氣體噴淋系統(tǒng)(11)所噴出的氣體包括氮?dú)狻錃狻⒏稍锟諝?、氧氣、甲氨、氨氣等其中的一種或幾種混合氣體。

6.根據(jù)權(quán)利要求1-5中任意一項(xiàng)所述的線性真空干燥設(shè)備，其特征在于：所述上料區(qū)域包括上料平臺(tái)(1)和上料腔(2)，所述下料區(qū)域包括下料腔(7)和下料平臺(tái)(8)，所述上料平臺(tái)(1)、所述上料腔(2)、所述前緩沖腔(3)、所述干燥腔(4)、所述后緩沖腔(6)、所述下料腔(7)和所述下料平臺(tái)(8)依次相連通，所述上料平臺(tái)(1)和所述上料腔(2)之間、所述上料腔(2)和所述前緩沖腔(3)之間、所述后緩沖腔(6)和所述下料腔(7)之間，以及所述下料腔(7)和所述下料平臺(tái)(8)之間均設(shè)置有門(mén)閥(9)。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的線性真空干燥設(shè)備，其特征在于：所述真空調(diào)控系統(tǒng)包括真空泵(10)，所述真空泵(10)通過(guò)電磁閥一(14)和電磁閥二(16)，以及三通管(13)分別與所述上料腔(2)和所述下料腔(7)相連通。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的線性真空干燥設(shè)備，其特征在于：還包括充氣泵(19)和抽氣泵(20)，所述充氣泵(19)與所述噴氣區(qū)(17)相連通，以通過(guò)控制所述充氣泵(19)對(duì)所述噴氣區(qū)(17)的噴氣流量進(jìn)行調(diào)整，并且整臺(tái)設(shè)備的進(jìn)氣流量為0.2slm～200slm，所述抽氣泵(20)與所述抽氣區(qū)(18)相連通。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的線性真空干燥設(shè)備，其特征在于：所述干燥腔(4)的數(shù)量至少為一個(gè)。