[發明專利]一種改善基站天線E面耦合的結構在審
| 申請號： | 202111457163.9 | 申請日： | 2021-12-02 |
| 公開（公告）號： | CN114069220A | 公開（公告）日： | 2022-02-18 |
| 發明（設計）人： | 趙魯豫;袁清 | 申請（專利權）人： | 蘇州耀歐然科技有限公司 |
| 主分類號： | H01Q1/38 | 分類號： | H01Q1/38;H01Q1/50;H01Q1/52;H01Q1/22;H01Q21/00;H01Q19/10 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 215000 江蘇省蘇州市高新區竹園路*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 改善 基站 天線 耦合 結構 | ||
【權利要求書】：
1.一種改善基站天線E面耦合的結構，其特征在于，包括地板(1)、去耦金屬柱(2)、雙極化天線單元(3)，所述去耦金屬柱(2)垂直于地板(1)，所述去耦金屬柱(2)和雙極化天線單元(3)設有多組，所述去耦金屬柱(2)位于兩個雙極化天線單元(3)的中點處，所述去耦金屬柱(2)的高度為工作中心頻率的八分之一波長。
2.根據權利要求1所述一種改善基站天線E面耦合的結構，其特征在于：所述去耦金屬柱(2)和地板(1)電連接。
3.根據權利要求1所述一種改善基站天線E面耦合的結構，其特征在于：所述去耦金屬柱(2)和地板(1)之間設有薄片，所述薄片為絕緣材料。
4.根據權利要求3所述一種改善基站天線E面耦合的結構，其特征在于：所述薄片材質為特氟龍。
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