[發明專利]一種用于偉晶巖脈的勘探方法及系統

有效

• 申請號: 202111453224.4
• 申請日: 2021-12-01
• 公開（公告）號: CN114137619B
• 公開（公告）日: 2022-09-23
• 發明（設計）人: 周楠楠;薛國強;張順;魏新昊
• 申請（專利權）人: 中國科學院地質與地球物理研究所
• 主分類號: G01V3/08
• 分類號: G01V3/08;G01V3/36
• 代理公司: 北京東方盛凡知識產權代理事務所(普通合伙) 11562
• 代理人: 李娜

1.一種用于偉晶巖脈的勘探方法，其特征在于，包括以下步驟：

基于偉晶巖脈所在的目標地區，每一個測點設置三個接地電極，采集兩組所述接地電極之間的電場差；

基于所述接地電極的設置位置，依據所述電場差，繪制多測道圖；

根據所述多測道圖的橫向變化，獲取所述偉晶巖脈的電阻率變化特征，并依據所述電阻率變化特征確定所述偉晶巖脈的位置以及巖性特征；

在采集兩組所述接地電極之間的電場差的過程中，三個所述接地電極之間包括第一間距、第二間距、第三間距；

所述第一間距與所述第二間距的和等于所述第三間距；

采集所述第一間距的第一電場差、所述第二間距的第二電場差，根據所述第三間距，繪制所述多測道圖；

所述第一間距與所述第二間距的和大于所述第三間距；

在繪制所述多測道圖的過程中，所述第一間距和所述第二間距包括第一夾角；

所述第一夾角的夾角范圍為60°-160°；

采集所述第一間距的第一電場差、所述第二間距的第二電場差，根據所述第一間距、所述第二間距，繪制所述多測道圖；

在繪制所述多測道圖的過程中，所述第一間距和所述第二間距包括第二夾角；

所述第二夾角大于0°且小于60°；

基于所述第二夾角，獲取所述第一電場差、所述第二電場差在所述第三間距上的投影之和，并根據所述第一間距、所述第二間距，繪制所述多測道圖；

在繪制所述多測道圖的過程中，所述第一間距和所述第二間距包括第三夾角；

所述第三夾角大于160°且小于180°；

根據所述第三間距以及所述第一電場差和所述第二電場差之和，繪制所述多測道圖。

2.一種用于偉晶巖脈的勘探系統，其特征在于，包括：

數據采集模塊，用于基于偉晶巖脈所在的目標地區，設置三個接地電極，采集兩個所述接地電極之間的電場差，在采集兩組所述接地電極之間的電場差的過程中，三個所述接地電極之間包括第一間距、第二間距、第三間距；所述第一間距與所述第二間距的和等于所述第三間距；采集所述第一間距的第一電場差、所述第二間距的第二電場差，根據所述第三間距，繪制多測道圖；

數據處理模塊，用于基于所述接地電極的設置位置，依據所述電場差，繪制多測道圖；在采集兩組所述接地電極之間的電場差的過程中，三個所述接地電極之間包括第一間距、第二間距、第三間距；

所述第一間距與所述第二間距的和等于所述第三間距；采集所述第一間距的第一電場差、所述第二間距的第二電場差，根據所述第三間距，繪制所述多測道圖；所述第一間距與所述第二間距的和大于所述第三間距；在繪制所述多測道圖的過程中，所述第一間距和所述第二間距包括第一夾角；所述第一夾角的夾角范圍為60°-160°；采集所述第一間距的第一電場差、所述第二間距的第二電場差，根據所述第一間距、所述第二間距，繪制所述多測道圖；在繪制所述多測道圖的過程中，所述第一間距和所述第二間距包括第二夾角；所述第二夾角大于0°且小于60°；基于所述第二夾角，獲取所述第一電場差、所述第二電場差在所述第三間距上的投影之和，并根據所述第一間距、所述第二間距，繪制所述多測道圖；在繪制所述多測道圖的過程中，所述第一間距和所述第二間距包括第三夾角；所述第三夾角大于160°且小于180°；根據所述第三間距以及所述第一電場差和所述第二電場差之和，繪制所述多測道圖；

數據分析模塊，用于根據所述多測道圖的橫向變化，獲取所述偉晶巖脈的電阻率變化特征，并依據所述電阻率變化特征確定所述偉晶巖脈的位置以及巖性特征；

顯示模塊，用于顯示所述目標地區、所述多測道圖、所述偉晶巖脈的所述位置以及所述巖性特征。