[發明專利]一種低串光菲涅爾透鏡及血氧測量裝置

在審

• 申請號: 202111432343.1
• 申請日: 2021-11-29
• 公開（公告）號: CN116184540A
• 公開（公告）日: 2023-05-30
• 發明（設計）人: 王雪松;卜祥強
• 申請（專利權）人: 蘇州奧浦迪克光電技術有限公司
• 主分類號: G02B3/08
• 分類號: G02B3/08;A61B5/1455
• 代理公司: 蘇州創元專利商標事務所有限公司 32103
• 代理人: 俞春雷

1.一種低串光菲涅爾透鏡，其特征在于：由內向外依次包括第一透鏡、阻擋部和第二透鏡，所述第一透鏡、阻擋部及第二透鏡的圓心均相同，所述阻擋部位于所述第一透鏡與第二透鏡之間，所述阻擋部用于連接所述第一透鏡和第二透鏡；所述阻擋部包括填充塊，所述填充塊為黑色不透明物質，所述填充塊用于阻擋光線在所述第一透鏡和第二透鏡內部傳導；所述阻擋部包括多個連接塊，所述連接塊的一端與所述第一透鏡連接，所述連接塊的另一端與所述第二透鏡連接。

2.根據權利要求1所述的菲涅爾透鏡，其特征在于：所述阻擋部由內向外開設有至少一組上阻擋槽和/或下阻擋槽，所述上阻擋槽由所述阻擋部的上表面向下開設，和/或所述下阻擋槽由所述阻擋部的下表面向上開設。

3.根據權利要求2所述的菲涅爾透鏡，其特征在于：每組所述上阻擋槽為連續開設的上凹槽或包括多個間斷開設的上凹槽，每組所述上阻擋槽中的多個間斷開設的所述上凹槽形成虛擬圓形。

4.根據權利要求3所述的菲涅爾透鏡，其特征在于：每組所述下阻擋槽為連續開設的下凹槽或包括多個間斷開設的下凹槽，每組所述下阻擋槽中的多個間斷開設的所述下凹槽形成虛擬圓形。

5.根據權利要求4所述的菲涅爾透鏡，其特征在于：相鄰兩組所述上阻擋槽之間包括至少一組下阻擋槽；所述上凹槽的底部到所述阻擋部的下表面的距離小于所述下凹槽的深度。

6.根據權利要求4所述的菲涅爾透鏡，其特征在于：所述上凹槽和/或下凹槽用于容納所述填充塊，所述填充塊的尺寸與所述上凹槽和/或下凹槽的尺寸相同。

7.根據權利要求6所述的菲涅爾透鏡，其特征在于：所述阻擋部除去所述上阻擋槽、下阻擋槽及填充塊的剩余部分為無色透明物質。

8.根據權利要求2所述的菲涅爾透鏡，其特征在于：相鄰兩個所述連接塊與所述第一透鏡、第二透鏡之間形成通口；所述通口的橫截面的形狀為扇環。

9.一種血氧測量裝置，其特征在于：包括如權利要求1-8任意一項所述的菲涅爾透鏡。