[發明專利]一種快速冷卻的鍍膜樣品臺裝置及其應用

在審

• 申請號: 202111418416.1
• 申請日: 2021-11-26
• 公開（公告）號: CN114134478A
• 公開（公告）日: 2022-03-04
• 發明（設計）人: 肖祁陵;高禮鑫;姜婉琰;葛軍飴
• 申請（專利權）人: 上海大學
• 主分類號: C23C14/50
• 分類號: C23C14/50;C23C14/30
• 代理公司: 濟寧匯景知識產權代理事務所(普通合伙) 37254
• 代理人: 茍莎

1.一種快速冷卻的鍍膜樣品臺裝置，其特征在于，包括冷卻臺（2）、樣品臺（5）及升降部（6）、傳動部（7）；

所述冷卻臺（2）下方設置有樣品擋板（3），樣品擋板（3）通過相應連接件與冷卻臺（2）在豎直方向上相對固定連接，并能夠在外力作用下實現其在冷卻臺（2）正下方與偏離冷卻臺（2）正下方兩處位置的切換；

所述冷卻臺（2）內設置有冷卻介質容納腔（21），并由一傳輸管（4）通至冷卻介質容納腔（21）內，所述傳輸管（4）與冷卻臺（2）固定連接，且傳輸管（4）向外延伸連通至外部冷源；所述冷卻臺（2）的底端位于冷卻介質容納腔（21）的下方開有一開口朝下的樣品槽（22），所述樣品槽（22）內設置有樣品臺（5），樣品臺（5）以能夠沿水平方向滑動的方式設置于樣品槽（22）內，樣品臺（5）的下端面作為用于固定樣品的工作面；

所述冷卻臺（2）的外部設置有用于控制冷卻臺（2）升降的升降部（6），升降部（6）連接有用于與外界驅動源相連接的傳動部（7）。

2.根據權利要求1所述的快速冷卻的鍍膜樣品臺裝置，其特征在于，所述樣品槽（22）設置成燕尾槽結構，所述冷卻臺（2）在豎直方向上的截面設為等腰梯形，以與樣品槽（22）相配合。

3.根據權利要求2所述的快速冷卻的鍍膜樣品臺裝置，其特征在于，所述樣品槽（22）的外端通至樣品臺（5）的側端面，用于樣品臺（5）由樣品槽（22）中滑出。

4.根據權利要求1所述的快速冷卻的鍍膜樣品臺裝置，其特征在于，所述樣品臺（5）采用銅材質。

5.根據權利要求1所述的快速冷卻的鍍膜樣品臺裝置，其特征在于，所述升降部（6）包括與傳輸管（4）固定相連的調節盤（62），升降部（6）通過調節盤（62）與傳動部（7）的相應部件相連接。

6.根據權利要求1或5所述的快速冷卻的鍍膜樣品臺裝置，其特征在于，所述傳動部（7）包括傳動齒輪（71）、絲桿（72）、限位柱（73）、調節塊（74），傳動齒輪（71）芯部與絲桿（72）固定相連，調節塊（74）穿設在絲桿（72）和限位柱（73）上，調節塊（74）與限位柱（73）以滑動方式相連，調節塊（74）與絲桿（72）以螺紋方式相連，所述調節塊（74）的外端與升降部（6）的相應部件相連接，用于控制升降部（6）的升降。

7.根據權利要求6所述的快速冷卻的鍍膜樣品臺裝置，其特征在于，所述傳動部（7）還包括一豎直方向的刻度盤（75），調節塊（74）上連接有與刻度盤（75）相適配的指針（76）。

8.根據權利要求1所述的快速冷卻的鍍膜樣品臺裝置，其特征在于，所述冷卻臺的側端設有一擋圈，樣品擋板（3）的側端固定連接有一連接桿，連接桿穿過該擋圈并向上延伸，連接桿上固定設置有一位于擋圈上方的卡塊。

9.如權利要求1-8任一項所述的快速冷卻的鍍膜樣品臺裝置的應用，其特征在于，應用于電子束蒸發鍍膜設備中，用于低熔點金屬/化合物薄膜的制備。

10.根據權利要求9所述的應用，其特征在于，將所述冷卻臺置于電子束蒸發鍍膜設備的內腔中、靶材的上方，將傳動部和升降部通過法蘭盤安裝在電子束蒸發鍍膜設備的頂部，通過控制冷卻臺的升降來調節工作距離即位于樣品臺下端面的樣品距靶材的距離，向冷卻介質容納腔中通入液氮降溫，實施低溫鍍膜。