[發明專利]一種ZrB2 有效
| 申請號： | 202111409906.5 | 申請日： | 2021-11-25 |
| 公開（公告）號： | CN113880589B | 公開（公告）日： | 2022-11-11 |
| 發明（設計）人： | 莫培程;陳家榮;陳超;駱穎;張延軍;王文龍;張喆;潘曉毅 | 申請（專利權）人： | 桂林特邦新材料有限公司 |
| 主分類號： | C04B35/5831 | 分類號： | C04B35/5831;C04B35/622;C04B35/63;C04B35/64 |
| 代理公司： | 桂林市持衡專利商標事務所有限公司 45107 | 代理人： | 唐智芳 |
| 地址： | 541004 廣西壯*** | 國省代碼： | 廣西;45 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 zrb base sub | ||
1.一種ZrB2增韌聚晶立方氮化硼復合片的制備方法，其特征是，按重量百分比計，稱取17～35％的結合劑、1～5％的氮化鋁和余量的立方氮化硼混合均勻后置于高溫真空環境中凈化，得到混合粉料；將所得混合粉料和硬質合金基體置于保溫傳壓介質中，進行高溫高壓合成，即得到ZrB2增韌聚晶立方氮化硼復合片；其中，所述的結合劑由碳化硼、鋯粉和硅粉按1：4：1.5的重量比組成。
2.根據權利要求1所述的制備方法，其特征是，所述立方氮化硼粉由鍍鎳立方氮化硼和無鍍層立方氮化硼組成。
3.根據權利要求2所述的制備方法，其特征是，所述立方氮化硼由鍍鎳立方氮化硼和無鍍層立方氮化硼按1：2～5的重量比組成。
4.根據權利要求1～3中任一項所述的制備方法，其特征是，所述立方氮化硼、碳化硼、鋯粉和硅粉的粒徑均為微米級。
5.根據權利要求4所述的制備方法，其特征是，所述立方氮化硼的平均粒徑為1～22μm，碳化硼、鋯粉和硅粉的平均粒徑均為1～10μm。
6.根據權利要求1～3中任一項所述的制備方法，其特征是，所述氮化鋁的粒徑為納米級。
7.根據權利要求6所述的制備方法，其特征是，所述氮化鋁的平均粒徑為50～500nm。
8.根據權利要求1～3中任一項所述的制備方法，其特征是，所述的高溫真空環境為溫度為800～1200℃、壓力為10-1～10-3Pa的環境。
9.根據權利要求1～3中任一項所述的制備方法，其特征是，所述高溫高壓合成的工藝條件為：壓力為4.5～5.5GPa，溫度為1400～1750℃，時間為10～15min。
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