[發(fā)明專利]一種含硫高折射率單體及其應(yīng)用

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202111409228.2
• 申請(qǐng)日: 2021-11-25
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN114014789A
• 公開(kāi)（公告）日: 2022-02-08
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 萬(wàn)曉君;朱曉群;聶俊
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 江蘇集萃光敏電子材料研究所有限公司
• 主分類號(hào): C07C329/16
• 分類號(hào): C07C329/16;C07C333/04;C07C333/10;C07C333/08;C07D305/06;C09D4/00;C09D4/02
• 代理公司: 常州佰業(yè)騰飛專利代理事務(wù)所(普通合伙) 32231
• 代理人: 馬曉敏

1.一種含硫高折射率單體，其特征在于，具有如下式(Ⅰ)或式(Ⅱ)的化學(xué)結(jié)構(gòu)：

其中A₁選自含硫原子的烯烴基、含氧原子或硫原子的β-烯酮基、含氧原子或硫原子的酰胺類烯烴基、含氧原子或硫原子的氨基類烯酸酯基、含氧原子或硫原子的環(huán)烷基中的任意一種，A₂選自烯烴基、直鏈或支鏈環(huán)氧基、直鏈或支鏈環(huán)硫基中的任意一種；其中n的取值范圍為0-20。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種含硫高折射率單體，其特征在于，所述n的取值范圍為1-3。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種含硫高折射率單體，其特征在于，所述A₁具體選自如下任意一種化學(xué)結(jié)構(gòu)基團(tuán)：

A₂選自具體選自如下任意一種化學(xué)結(jié)構(gòu)基團(tuán)：

A₁、A₂中的X均為氧原子或硫原子，表示與A₁或A₂連接的鍵。

4.根據(jù)權(quán)利要求1-3任一項(xiàng)所述的含硫高折射率單體應(yīng)用于光電子行業(yè)中，其特征在于，應(yīng)用時(shí)將所述含硫高折射率單體進(jìn)行全固含量的光固化聚合。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的應(yīng)用，其特征在于，將所述含硫高折射率單體與光引發(fā)劑按照質(zhì)量百分比為(94％-98％):(2％-6％)的比例均勻混合成全固含量光固化聚合體系，在光強(qiáng)度為I_365nm＝1mW/cm²下進(jìn)行光固化聚合，聚合產(chǎn)物的折射率至少為1.6。