[發明專利]電致變焦超透鏡及其制備方法和調制方法

有效

• 申請號: 202111386103.2
• 申請日: 2021-11-22
• 公開（公告）號: CN113867070B
• 公開（公告）日: 2023-09-29
• 發明（設計）人: 林佑昇;林鵬
• 申請（專利權）人: 中山大學
• 主分類號: G02F1/29
• 分類號: G02F1/29
• 代理公司: 廣州嘉權專利商標事務所有限公司 44205
• 代理人: 梁嘉琦

1.一種電致變焦超透鏡，其特征在于，包括襯底及設置于所述襯底上的若干個同心環，每個所述同心環包括相變材料層及分別設置于所述相變材料層的兩面的第一電極層和第二電極層，通過調節所述第一電極層和所述第二電極層的電壓調節所述同心環的相移以調節所述電致變焦超透鏡的焦距。

2.根據權利要求1所述的電致變焦超透鏡，其特征在于，所述同心環之間的間距相等。

3.根據權利要求1所述的電致變焦超透鏡，其特征在于，所述襯底的材料包括二氧化硅。

4.根據權利要求1所述的電致變焦超透鏡，其特征在于，所述第一電極層和所述第二電極層的材料相同。

5.根據權利要求1所述的電致變焦超透鏡，其特征在于，所述第一電極層和所述第二電極層的材料包括氧化銦錫。

6.一種電致變焦超透鏡的制備方法，其特征在于，所述電致變焦超透鏡包括襯底及設置于所述襯底上的若干個同心環，所述制備方法包括：

提供襯底；

在所述襯底上依次制備第一電極層、相變材料層及第二電極層；

在所述第二電極層的表面通過光刻和刻蝕制備若干個同心環；每個所述同心環包括相變材料層及分別設置于所述相變材料層的兩面的第一電極層和第二電極層。

7.根據權利要求6所述的制備方法，其特征在于，通過化學氣相沉積在所述襯底上依次制備第一電極層、相變材料層及第二電極層。

8.一種電致變焦超透鏡的調制方法，其特征在于，所述電致變焦超透鏡包括襯底及設置于所述襯底上的若干個同心環，每個所述同心環包括相變材料層及分別設置于所述相變材料層的兩面的第一電極層和第二電極層，所述調制方法包括：

獲取電致變焦超透鏡待調節的焦距；

根據所述待調節的焦距及預設的第一對應關系確定所述同心環的相移；所述第一對應關系包括同心環的相移與焦距之間的計算公式；

根據所述相移及預設的第二對應關系確定所述第一電極層和所述第二電極層的電壓。

9.根據權利要求8所述的調制方法，其特征在于，所述計算公式包括：

其中，表示坐標為(x,y)的同心環的相移，λ表示入射光的波長，f表示焦距。