[發明專利]一種晶圓檢測高精度氣浮運動平臺及方法在審
| 申請號: | 202111374217.5 | 申請日: | 2021-11-19 |
| 公開(公告)號: | CN114111691A | 公開(公告)日: | 2022-03-01 |
| 發明(設計)人: | 劉浩;須穎;賈靜 | 申請(專利權)人: | 三英精控(天津)儀器設備有限公司 |
| 主分類號: | G01B21/24 | 分類號: | G01B21/24;G01R31/26;G01R1/02;H01L21/66 |
| 代理公司: | 深圳市爾遜專利代理事務所(普通合伙) 44505 | 代理人: | 周盈如 |
| 地址: | 301700 天津市武清區武*** | 國省代碼: | 天津;12 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 檢測 高精度 運動 平臺 方法 | ||
1.一種晶圓檢測高精度氣浮運動平臺,其特征在于,包括:
基座,用于晶圓檢測過程中的底座;
橫梁,安裝在所述基座上;
滑臺,能夠沿所述橫梁的表面滑動,所述滑臺的頂部可用于承載晶圓;
直線電機,所述直線電機用于驅動滑臺沿橫梁滑動;
傳感器,具有至少三個,所述傳感器分布在滑臺的側面,所述至少三個傳感器被配置為檢測晶圓的垂直直線度;
氣浮軸承,包括第一氣浮軸承、第二氣浮軸承以及第三氣浮軸承,所述第一氣浮軸承和第二氣浮軸承用于滑臺的側面限位懸浮,所述第三氣浮軸承用于滑臺的底面限位懸浮;
補償裝置,位于所述滑臺的上方,所述補償裝置基于傳感器檢測的實時數據,對晶圓的垂直直線度進行補償。
2.根據權利要求1所述的氣浮運動平臺,其特征在于,還包括高精度平面,所述高精度平面用于晶圓平面度的參考面,所述傳感器通過測量晶圓相對于該高精度平面的位置變化,以實現晶圓垂直直線度的檢測。
3.根據權利要求2所述的氣浮運動平臺,其特征在于,所述高精度平面為平晶,所述平晶安裝在第一安裝座上,所述第一安裝座固定在基座上,該平晶和第一安裝座分別具有兩組,其中一組平晶和第一安裝座位于滑臺的一側,另一組平晶和第一安裝座位于滑臺的另一側。
4.根據權利要求1所述的氣浮運動平臺,其特征在于,還包括第二安裝座,所述第二安裝座有兩個,分別固定在滑臺的兩側,所述傳感器有三個,包括第一傳感器、第二傳感器和第三傳感器,所述第一傳感器安裝在其中一側的第二安裝座上,所述第二傳感器和第三傳感器共同安裝在另一側的第二安裝座上。
5.根據權利要求1所述的氣浮運動平臺,其特征在于,所述滑臺的頂部放置納米補償運動臺,所述晶圓安放在納米補償運動臺上,該納米補償運動臺疊加在氣浮運動平臺的滑臺上,所述晶圓可隨納米補償運動臺做直線運動。
6.根據權利要求1所述的氣浮運動平臺,其特征在于,還包括阻尼器和擋板,所述擋板位于橫梁的兩側,用于橫梁的封閉,所述阻尼器有兩個,相對設置,分別位于靠近擋板的內側,所述阻尼器用于對滑臺的運動軌跡進行限位。
7.根據權利要求1所述的氣浮運動平臺,其特征在于,所述補償裝置為納米補償臺。
8.一種晶圓檢測方法,其特征在于,包括:
步驟S100:將待檢測晶圓安放在滑臺上;
步驟S200:通過直線電機驅動滑臺沿橫梁的表面滑動;
步驟S300:通過至少三個傳感器分別檢測晶圓運動過程中的垂直直線度;
步驟S400:通過補償裝置對晶圓的垂直直線度進行補償。
9.根據權利要求8所述的方法,其特征在于,所述步驟S300中還包括:設置高精度平面,所述傳感器測量氣浮運動臺垂直方向跳動,實現晶圓垂直直線度的檢測。
10.根據權利要求8所述的方法,其特征在于,所述步驟S400中補償過程具體為:傳感器將檢測到的滑臺垂直直線度誤差信號傳遞至補償裝置,補償裝置通過調整滑臺的運動軌跡,完成晶圓垂直直線度的補償。
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