[發明專利]一種電子發射裝置及X射線管

在審

• 申請號: 202111372369.1
• 申請日: 2021-11-18
• 公開（公告）號: CN114093736A
• 公開（公告）日: 2022-02-25
• 發明（設計）人: 張棋;柳桑;田佳甲
• 申請（專利權）人: 武漢聯影醫療科技有限公司
• 主分類號: H01J35/06
• 分類號: H01J35/06;H01J35/14;A61B6/00;A61B6/03
• 代理公司: 成都七星天知識產權代理有限公司 51253
• 代理人: 袁春曉;李丹

本說明書實施例提供一種電子發射裝置及X射線管，該電子發射裝置包括：底座、熱電子發射元件和冷電子發射元件，底座上具有第一控制極組件和第二控制極組件；熱電子發射元件設于所述第一控制極組件形成的第一電場中，且所述第一控制極組件用于調節所述第一電場，所述第一電場用于控制所述熱電子發射元件產生的電子束的焦點大小和/或偏轉角度；冷電子發射元件設于所述第二控制極組件形成的第二電場中，且所述第二控制極組件用于調節所述第二電場，所述第二電場用于控制所述冷電子發射元件產生的電子束的焦點大小和/或偏轉角度。

技術領域

本說明書涉及電子發射技術領域，特別涉及一種電子發射裝置及X射線管。

背景技術

X射線管是在醫療成像或工業成像等領域得到廣泛應用。X射線管包含有電子發射裝置(例如，可以包括燈絲，作為X射線管的陰極)和電子接收裝置(例如，可以包括靶盤，作為X射線管的陽極)，電子發射裝置可以用于發射電子，電子接收裝置可以用于接受電子的轟擊。電子接收裝置受到高速電子的和轟擊后，由于高速電子的運動突然受到阻止，高速電子的動能的一部分轉化為輻射能，以X射線的形式放出。

發明內容

一種電子發射裝置，其包括：底座、熱電子發射元件和冷電子發射元件；所述底座上具有第一控制極組件和第二控制極組件；所述熱電子發射元件設于第一控制極組件形成的第一電場中，且所述第一控制極組件用于調節所述第一電場，所述第一電場用于控制所述熱電子發射元件產生的電子束的焦點大小和/或偏轉角度；所述冷電子發射元件設于所述第二控制極組件形成的第二電場中，且所述第二控制極組件用于調節所述第二電場，所述第二電場用于控制所述冷電子發射元件產生的電子束的焦點大小和/或偏轉角度。

在一些實施例中，所述第一控制極組件包括第一控制電極和第二控制電極，所述第一控制電極和所述第二控制電極之間分布有所述第一電場；所述第二控制極組包括所述第二控制電極和第三控制電極，所述第二控制電極和所述第三控制電極之間分布有所述第二電場。

在一些實施例中，所述熱電子發射元件具有第一接線端和第二接線端，所述第一接線端與所述底座相連，所述第二接線端與設于所述底座上的隔層相連，所述第二接線端的電位高于或低于所述第一接線端的電位；所述冷電子發射元件的電位與所述底座的電位相同。

在一些實施例中，電子發射裝置還包括第一柵極，所述第一柵極和所述底座之間分布有第三電場，所述冷電子發射元件設于所述第三電場中；所述第一柵極用于調節所述第三電場，所述第三電場用于控制所述冷電子發射元件的電子束發射。

在一些實施例中，所述第一柵極上設有多個通孔。

在一些實施例中，所述第一柵極用于在所述冷電子發射元件產生的電子束的作用下發射次級電子。

在一些實施例中，電子發射裝置還包括第二柵極，所述第二柵極和所述底座之間分布有第四電場，所述熱電子發射元件設于所述第四電場中；所述第二柵極用于在所述熱電子發射元件產生的電子束的作用下發射次級電子。

在一些實施例中，所述底座包括間隔布置的第一凹槽和第二凹槽，所述第一凹槽的中心軸線和所述第二凹槽的中心軸線平行；所述熱電子發射元件設于所述第一凹槽內；所述冷電子發射元件設于所述第二凹槽內；所述第一控制電極位于遠離所述第二凹槽的所述第一凹槽側，所述第二控制電極位于所述第一凹槽和所述第二凹槽之間，所述第三控制電極位于遠離所述第一凹槽的所述第二凹槽側。

在一些實施例中，所述熱電子發射元件為螺旋狀、平面板狀或曲面板狀；所述冷電子發射元件為平板狀或曲面板狀。

本說明書實施例還提供一種X射線管，所述X射線管包括陰極，所述陰極包括上述任一技術方案所述電子發射裝置。