[發明專利]顯示面板、顯示面板的制作方法以及顯示裝置在審
| 申請號: | 202111364205.4 | 申請日: | 2021-11-17 |
| 公開(公告)號: | CN114141828A | 公開(公告)日: | 2022-03-04 |
| 發明(設計)人: | 孟小龍 | 申請(專利權)人: | 深圳市華星光電半導體顯示技術有限公司 |
| 主分類號: | H01L27/32 | 分類號: | H01L27/32;H01L51/52;H01L51/56 |
| 代理公司: | 深圳紫藤知識產權代理有限公司 44570 | 代理人: | 熊明 |
| 地址: | 518132 廣東省深*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 顯示 面板 制作方法 以及 顯示裝置 | ||
1.一種顯示面板,其特征在于,包括:
陣列基板;
平坦化層,設置于所述陣列基板上;
陽極,設置于所述平坦化層上;
彈性結構,設置于所述平坦化層上,所述彈性結構與所述陽極的側面抵接。
2.根據權利要求1所述的顯示面板,其特征在于,所述平坦化層的邊沿設置有凹部,所述彈性結構部分置于所述凹部內。
3.根據權利要求1所述的顯示面板,其特征在于,所述彈性結構的背離所述平坦化層的一面高于所述陽極背離所述平坦化層的一面。
4.根據權利要求1所述的顯示面板,其特征在于,所述彈性結構的厚度范圍為100nm-5000nm。
5.根據權利要求1-4任一項所述的顯示面板,其特征在于,所述顯示面板還包括:
像素定義層,所述像素定義層的內側設置于所述陽極上,所述像素定義層的外側設置于所述彈性結構上;
有機發光層,設置于所述陽極上,所述有機發光層位于所述像素定義層內。
6.根據權利要求1-4任一項所述的顯示面板,其特征在于,所述顯示面板還包括:
像素定義層,所述像素定義層的內側或外側齊平于所述彈性結構和所述陽極的抵接面。
7.一種顯示面板的制作方法,其特征在于,包括:
提供一陣列基板,在所述陣列基板上制備平坦化層;
在所述平坦化層上制備陽極;
在所述陽極上涂布光刻膠;
在光刻膠和平坦化層上整面形成彈性材料;
采用剝離將陽極上方的彈性材料剝離,在所述陽極的側面形成彈性結構。
8.根據權利要求7所述的制作方法,其特征在于,所述在所述陽極上涂布光刻膠的步驟之后,還包括:
對位于陽極外的平坦化層進行刻蝕處理,使得平坦化層減薄。
9.根據權利要求7所述的制作方法,其特征在于,所述在所述陽極的側面形成彈性結構的步驟之后,還包括:
對所述彈性材料進行烘烤固化處理形成彈性結構,所述烘烤溫度范圍為130°-140°。
10.一種顯示裝置,其特征在于,包括如權利要求1-6任一項所述的顯示面板。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個共用襯底內或其上形成的多個半導體或其他固態組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導體組件并且至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的;包括至少有一個躍變勢壘或者表面勢壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發射并且包括至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的半導體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結點的熱電元件的;包括有熱磁組件的





