[發明專利]一種基于聲光裝置的模式控制系統在審
| 申請號: | 202111363796.3 | 申請日: | 2021-11-17 |
| 公開(公告)號: | CN114069377A | 公開(公告)日: | 2022-02-18 |
| 發明(設計)人: | 曾祥龍;鄔昊村;徐江韜;王龍濤;邾毅 | 申請(專利權)人: | 上海大學 |
| 主分類號: | H01S3/117 | 分類號: | H01S3/117;H01S3/108;H01S3/098;H01S3/094 |
| 代理公司: | 北京盛詢知識產權代理有限公司 11901 | 代理人: | 方亞兵 |
| 地址: | 200444*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 基于 聲光 裝置 模式 控制系統 | ||
1.一種基于聲光裝置的模式控制系統,其特征在于:包括高功率脈沖產生裝置(22)、聲光裝置(23)、光學成像裝置(24)和數據分析工具(25),所述高功率脈沖產生裝置(22)包括第一單模耦合器(1)、第二單模耦合器(2)、摻鐿光纖泵浦光源(3)、合束器(4)、摻鐿光纖(5)、第一偏振控制器(6)、第二偏振控制器(7)和單模光纖,所述聲光裝置(23)包括鋁制圓錐(8)、壓電陶瓷片(9)、電壓放大器(10)、信號發生器(11)、第三偏振控制器(12)和少模光纖(13),所述光學成像裝置(24)包括第一雙膠合透鏡(14)、第二雙膠合透鏡(15)、平面分束鏡(16)、偏振相關分束立方(17)和面陣激光光束分析儀(18),所述數據分析工具(25)包括示波器(19)、功率計(20)和計算機(21)。
2.根據權利要求1所述的一種基于聲光裝置的模式控制系統,其特征在于:所述第一單模耦合器(1)設有第一單模耦合器(1)第一端口、第一單模耦合器(1)第二端口和第一單模耦合器(1)第三端口,所述第一單模耦合器(1)第一端口和所述第一單模耦合器(1)第二端口連接形成環路;所述第二單模耦合器(2)設有第二單模耦合器(2)第一端口、第二單模耦合器(2)第二端口、第二單模耦合器(2)第三端口和第二單模耦合器(2)第四端口,所述第二單模耦合器(2)第三端口和所述第二單模耦合器(2)第四端口連接形成環路,所述高功率脈沖產生裝置(22)的輸出端口為所述第二單模耦合器(2)第二端口。
3.根據權利要求2所述的一種基于聲光裝置的模式控制系統,其特征在于:所述合束器(4)設有合束器(4)第一端口、合束器(4)第二端口和合束器(4)第三端口;所述增益光纖(5)設有增益光纖(5)第一端口和增益光纖(5)第二端口;所述增益光纖(5)泵浦光源(3)與所述合束器(4)第一端口連接,所述第一單模耦合器(1)第三端口與所述合束器(4)第二端口連接,所述增益光纖(5)第一端口與所述合束器(4)第三端口連接,所述增益光纖(5)第二端口與所述第二單模耦合器(2)第一端口連接。
4.根據權利要求2所述的一種基于聲光裝置的模式控制系統,其特征在于:所述第一偏振控制器(6)和所述第二偏振控制器(7)設置在所述第二單模耦合器(2)的第三端口和所述第二單模耦合器(2)第四端口之間。
5.根據權利要求2所述的一種基于聲光裝置的模式控制系統,其特征在于:所述少模光纖(13)設有少模光纖(13)第一端口、少模光纖(13)第二端口和少模光纖(13)中間部分,所述少模光纖(13)中間部分為去涂覆層部分;所述第二單模耦合器(2)第二端口與所述少模光纖(13)第一端口連接,所述第三偏振控制器(12)設置在靠近所述少模光纖(13)第二端口一側。
6.根據權利要求5所述的一種基于聲光裝置的模式控制系統,其特征在于:所述聲光裝置(23)的輸入端口為所述少模光纖(13)第一端口,所述聲光裝置(23)的輸出端口為所述少模光纖(13)第二端口。
7.根據權利要求5所述的一種基于聲光裝置的模式控制系統,其特征在于:所述鋁制圓錐(8)、所述壓電陶瓷片(9)、所述電壓放大器(10)和所述信號發生器(11)順次連接,所述鋁制圓錐(8)的錐尖固定于所述少模光纖(13)中間部分和所述少模光纖(13)中第一端口的交界處。
8.根據權利要求5所述的一種基于聲光裝置的模式控制系統,其特征在于:所述少模光纖(13)第二端口、所述第一雙膠合透鏡(14)、所述平面分束鏡(16)、所述第二雙膠合透鏡(15)、所述偏振相關分束立方(17)和所述面陣激光光束分析儀(18)順次共軸放置。
9.根據權利要求1所述的一種基于聲光裝置的模式控制系統,其特征在于:所述平面分束鏡(16)用于對所述聲光裝置(23)生成的模斑強度進行衰減,所述偏振相關分束立方(17)用于使同一偏振方向的光投射于所述面陣激光光束分析儀(18),其透射光為p-偏振光,反射光為s-偏振光。
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