[發明專利]一種用于重金屬土壤治理的高效藥物修復裝置在審
| 申請號: | 202111363385.4 | 申請日: | 2021-11-17 |
| 公開(公告)號: | CN114011862A | 公開(公告)日: | 2022-02-08 |
| 發明(設計)人: | 姜萬禮;焦位雄;楊虎德;林大松;馬彥;馮丹妮 | 申請(專利權)人: | 甘肅省農業科學院土壤肥料與節水農業研究所 |
| 主分類號: | B09C1/02 | 分類號: | B09C1/02;B09C1/08;B01F27/80;B01F27/116;B01F27/17;B01F27/191 |
| 代理公司: | 蘭州錦知源專利代理事務所(普通合伙) 62204 | 代理人: | 鐘國 |
| 地址: | 730050 *** | 國省代碼: | 甘肅;62 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 用于 重金屬 土壤 治理 高效 藥物 修復 裝置 | ||
本發明提供了一種用于重金屬土壤治理的高效藥物修復裝置,屬于土壤治理技術領域,它解決了現有藥劑使用效果差,并且混合機構容易損壞等技術問題。本用于重金屬土壤治理的高效藥物修復裝置,包括兩個升降機架,升降機架的下端設置有行走輪,其兩個升降機架之間設置有升降座,升降座上固定有驅動電機,驅動電機的輸出端連接有驅動軸,驅動軸上轉動連接有鉆進筒,驅動軸的下端伸進鉆進筒內,驅動軸的下端連接有鉆進柱,鉆進柱的內部開設有空腔,空腔的下壁固定有旋轉電機,旋轉電機的輸出端連接有轉軸,轉軸上固定有若干轉盤,鉆進柱上水平滑動連接有攪拌柱。本發明具有提高藥劑使用效果,并對混合機構進行保護的優點。
技術領域
本發明屬于土壤治理技術領域,涉及一種土壤修復裝置,特別是一種用于重金屬土壤治理的高效藥物修復裝置。
背景技術
土壤修復是使遭受污染的土壤恢復正常功能的技術措施。在土壤修復行業,已有的土壤修復技術達到一百多種,常用技術也有十多種,大致可分為物理、化學和生物三種方法。20世紀80年代以來,世界上許多國家特別是發達國家均制定并開展了污染土壤治理與修復計劃,因此也形成了一個新興的土壤修復行業,土壤修復是指利用物理、化學和生物的方法轉移、吸收、降解和轉化土壤中的污染物,使其濃度降低到可接受水平,或將有毒有害的污染物轉化為無害的物質。從根本上說,污染土壤修復的技術原理可包括為,改變污染物在土壤中的存在形態或同土壤的結合方式,降低其在環境中的可遷移性與生物可利用性降低土壤中有害物質的濃度。
現有技術中土壤修復裝置為了提高藥劑的使用效果,會使用翻土機構,現在的翻土機構都是之間進入到地面將土壤翻開,并不能對土壤與藥劑進行攪拌,從而翻土機構進入地面的阻力較大,容易發生損壞。
發明內容
本發明的目的是針對現有的技術存在上述問題,提出了一種用于重金屬土壤治理的高效藥物修復裝置,該發明要解決的技術問題是:如何實現提高藥劑使用效果,并對混合機構進行保護。
本發明的目的可通過下列技術方案來實現:
一種用于重金屬土壤治理的高效藥物修復裝置,包括兩個升降機架,升降機架的下端設置有行走輪,兩個所述升降機架之間設置有升降座,所述升降座上固定有驅動電機,所述驅動電機的輸出端連接有驅動軸,所述驅動軸上轉動連接有鉆進筒,驅動軸的下端伸進鉆進筒內,驅動軸的下端連接有鉆進柱,所述鉆進柱的內部開設有空腔,所述空腔的下壁固定有旋轉電機,所述旋轉電機的輸出端連接有轉軸,所述轉軸上固定有若干轉盤,鉆進柱上水平滑動連接有攪拌柱,所述攪拌柱的外周面呈齒狀結構,攪拌柱的一端伸進空腔內并連接有連接桿,所述連接桿與轉盤的上側外周旋轉連接,鉆進筒上端設置有噴淋座,所述噴淋座的下側固定有位于鉆進筒內的噴頭。
本發明的工作原理是:在工作時,通過升降機架帶動升降座下降,升降座帶動鉆進筒和鉆進柱下降,使得鉆進筒的下端與地面接觸,然后利用噴淋座和噴頭對土壤進行噴藥,對土壤進行軟化,降低鉆進筒和鉆進柱進入地面時的阻力,然后利用升降機架帶動鉆進筒和鉆進柱下降,當下降到一定的位置后,升降機架停止下降,開啟旋轉電機帶動轉軸旋轉,轉軸旋轉帶動轉盤旋轉,在連接桿的作用下推動攪拌柱伸出鉆進柱,然后開啟驅動電機帶動鉆進柱旋轉,從而利用攪拌柱對土壤進行攪拌,由于在前期噴淋和鉆進筒與鉆進柱進入的過程中,已經使得土壤較為松散,攪拌柱的攪拌阻力較小,不易損壞,利用攪拌柱對土壤和藥劑進行攪拌混合,提高藥物的使用效果,而攪拌柱外周面齒狀結構的設置,可以進一步的提高對土壤的打散效果。
所述升降座上側固定有環形藥箱,所述環形藥箱的下端連通有送藥管,送藥管的另一端與噴淋座連通。
采用以上結構,通過將藥液存進環形藥箱內,通過送藥管將液壓送入到噴淋座上,具體的,送藥管上還設置有送藥泵,保證藥液的輸送效果。
所述噴淋座與鉆進筒旋轉連接,轉軸的外周固定有電動伸縮桿,所述電動伸縮桿的另一端固定有限位塊,鉆進筒的內壁上固定有限位座,限位塊與限位座配合。
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