[發(fā)明專利]一種超臨界二氧化碳輔助周期性脫揮工藝及裝置在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202111360803.4 | 申請日: | 2021-11-17 |
| 公開(公告)號: | CN113999332A | 公開(公告)日: | 2022-02-01 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 仇梟逸;奚楨浩;趙鳴;黃劍清;王雪松;張林;李響 | 申請(專利權(quán))人: | 華東理工大學(xué) |
| 主分類號: | C08F6/00 | 分類號: | C08F6/00;C08F112/08;C08F120/14;C08F114/06;C08F236/06;C08F236/08;B01D1/14 |
| 代理公司: | 蘇州翔遠(yuǎn)專利代理事務(wù)所(普通合伙) 32251 | 代理人: | 陸金星;葉丙靜 |
| 地址: | 200237 *** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 臨界 二氧化碳 輔助 周期性 工藝 裝置 | ||
1.一種超臨界二氧化碳輔助的周期性脫揮工藝,其特征在于,所述周期性脫揮工藝包括多個壓力循環(huán)周期,以二氧化碳為超臨界介質(zhì),在壓力循環(huán)周期內(nèi)壓力先升高再降低,使二氧化碳在超臨界態(tài)與氣態(tài)之間變換,實現(xiàn)聚合物脫揮。
2.如權(quán)利要求1所述的超臨界二氧化碳輔助的周期性脫揮工藝,其特征在于,所述壓力循環(huán)周期包括脫揮罐內(nèi)壓力先升高至P1=8~12MPa再降低至P2=0.5~1kPa。
3.如權(quán)利要求2所述的超臨界二氧化碳輔助的周期性脫揮工藝,其特征在于,所述壓力循環(huán)周期包括在3~7min時間內(nèi)壓力增加至P1,二氧化碳呈現(xiàn)超臨界狀態(tài),并進(jìn)入高聚物內(nèi),揮發(fā)分溶解在超臨界二氧化碳內(nèi),3~5min時間內(nèi)罐內(nèi)再降低壓力至P2,二氧化碳呈氣體狀態(tài),并與揮發(fā)分混合氣體排出。
4.如權(quán)利要求3所述的超臨界二氧化碳輔助的周期性脫揮工藝,其特征在于,所述周期性脫揮工藝包括3~5個壓力循環(huán)周期,聚合物在所述脫揮罐內(nèi)停留時間為20~60min;二氧化碳和揮發(fā)分的混合氣體從排氣口排出。
5.如權(quán)利要求1~4任一所述的超臨界二氧化碳輔助的周期性脫揮工藝,其特征在于,還包括夾帶劑,所述夾帶劑與二氧化碳?xì)怏w混合共同進(jìn)入脫揮罐內(nèi);所述夾帶劑為極性溶劑,二氧化碳?xì)怏w與夾帶劑的比值4~8:1;所述夾帶劑為水蒸汽、丙酮、乙醚、二氯甲烷或甲基叔丁基醚中的至少一種。
6.如權(quán)利要求1~4任一所述的超臨界二氧化碳輔助的周期性脫揮工藝,其特征在于,包括以下步驟:
(1)設(shè)定脫揮罐內(nèi)溫度為30~60℃,二氧化碳和夾帶劑混合氣體從所述脫揮罐底部注入罐內(nèi),升高罐內(nèi)壓力;持續(xù)通入二氧化碳和夾帶劑混合氣體直至罐內(nèi)壓力增加至二氧化碳超臨界壓力值P0=7.38MPa,二氧化碳呈現(xiàn)超臨界狀態(tài),所述脫揮罐內(nèi)部處于超臨界二氧化碳氛狀態(tài);
(2)待脫揮的聚合物從所述脫揮罐頂部注入罐內(nèi),經(jīng)降膜元件形成降膜,超臨界態(tài)二氧化碳能夠與聚合物充分接觸,并進(jìn)入聚合物內(nèi),揮發(fā)分溶解在超臨界二氧化碳內(nèi),并在降膜表面形成氣泡;
(3)所述脫揮罐內(nèi)的壓力到達(dá)設(shè)定的壓力值P1為8~12MPa,排氣口的閥門打開,所述脫揮罐內(nèi)的壓力開始降低,促使降膜表面氣泡破裂,真空泵經(jīng)排氣口抽真空,所述脫揮罐內(nèi)的二氧化碳、夾帶劑氣體和/或揮發(fā)分的混合氣體經(jīng)排氣口排出所述脫揮罐,罐內(nèi)壓力降低;
(4)所述脫揮罐內(nèi)壓力降低至P2=0.5~1kPa,真空泵停止工作,閥門關(guān)閉,至此,壓力循環(huán)周期完成;
(5)隨著二氧化碳和夾帶劑混合氣體在所述脫揮罐內(nèi)的濃度增大,罐內(nèi)壓力再次升高至P0,二氧化碳進(jìn)入超臨界狀態(tài),罐內(nèi)再次處于超臨界二氧化碳氛狀態(tài),超臨界二氧化碳再次與降膜接觸并形成氣泡;當(dāng)壓力到達(dá)設(shè)定的P1時,再次降壓,如此重復(fù)3~5個壓力循環(huán)周期。
7.如權(quán)利要求6所述的超臨界二氧化碳輔助的周期性脫揮工藝,其特征在于,所述聚合物為熱敏型聚合物或/和高粘聚合物。
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