[發(fā)明專利]一種超滑石墨烯摩爾結構涂層的制備方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202111349856.6 | 申請日: | 2021-11-15 |
| 公開(公告)號: | CN113880080B | 公開(公告)日: | 2022-12-02 |
| 發(fā)明(設計)人: | 李瑞云;張俊彥;侯德良;楊興 | 申請(專利權)人: | 中國科學院蘭州化學物理研究所 |
| 主分類號: | C01B32/194 | 分類號: | C01B32/194 |
| 代理公司: | 蘭州中科華西專利代理有限公司 62002 | 代理人: | 曹向東 |
| 地址: | 730000 甘*** | 國省代碼: | 甘肅;62 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 滑石 摩爾 結構 涂層 制備 方法 | ||
本發(fā)明涉及一種超滑石墨烯摩爾結構涂層的制備方法,該方法是指將石墨烯粉體與行星式球磨機中的磨珠混合,經球磨得到石墨烯摩爾結構薄膜;石墨烯摩爾結構薄膜通過片片平行接觸,且片層之間旋轉角度在15~45o之間,呈現(xiàn)非公度接觸狀態(tài)以產生摩爾條紋;然后將該石墨烯摩爾結構薄膜與含氫碳薄膜組成摩擦配伍對,于不同環(huán)境氛圍,在1~20N載荷、0.05~30cm/s速度范圍、0.28~3mm2接觸面積的條件下石墨烯摩爾結構薄膜內sp3鍵合碳受摩擦熱和剪切應力的作用,發(fā)生層間朝面內化學鍵轉向,產生層內無缺陷超滑石墨烯涂層。本發(fā)明簡單、綠色、高效,所得涂層具有穩(wěn)定石墨烯摩爾結構,其摩擦系數(shù)可低至0.006。
技術領域
本發(fā)明涉及材料技術和摩擦學領域,尤其涉及一種超滑石墨烯摩爾結構涂層的制備方法。
背景技術
隨著機械系統(tǒng)的高精密化、高集成化及高可靠性發(fā)展,機械系統(tǒng)運動部件的表界面效應越來越突出,對摩擦磨損的要求也越來越苛刻。同時據統(tǒng)計,摩擦造成全世界1/3的一次性能源消耗,60%的零部件損壞是由磨損引起的。由兩者導致的直接經濟損失占全國GDP的5%~7%左右。按照5%計算,2019年我國僅因摩擦、磨損導致的損失就高達4.95萬億元。因此進一步減小摩擦、降低磨損、延長運動部件的工作壽命成為潤滑技術的核心問題之一。
石墨烯因其特殊的層狀結構和層內極弱范德華力,能有效減少摩擦和磨損吸引了科學界和工程界的關注,并使其在工程領域具有廣泛應用潛力。石墨烯減摩潛力,甚至是超滑實現(xiàn),均建立在非公度接觸的基礎上,即石墨烯層隨著角度扭轉,而使得摩爾條紋隨著接觸區(qū)域面積的增加而逐步出現(xiàn),引起的上層結構的基體粘滑運動,并且隨著接觸面積的增加,異質結表現(xiàn)層從粘滑運動(高摩擦)到平滑滑動(超滑)的轉變。
然而,非公度接觸狀態(tài)是不穩(wěn)定的,易在摩擦過程種自發(fā)轉向到公度狀態(tài),從而鎖定到高摩擦配置,即同質結構超滑表現(xiàn)出嚴重轉角依賴性,也稱之為摩擦各向異性,并隨著摩擦過程接觸面積的增加而更加嚴重,而具有剛性聚晶表面形成多點接觸的結構可以阻止公度接觸的形成。但目前通過制備穩(wěn)定摩爾結構的石墨烯材料并實現(xiàn)固體超滑現(xiàn)象仍然是空白。
發(fā)明內容
本發(fā)明所要解決的技術問題是提供一種簡單、高效的超滑石墨烯摩爾結構涂層的制備方法。
為解決上述問題,本發(fā)明所述的一種超滑石墨烯摩爾結構涂層的制備方法,其特征在于:該方法是指將石墨烯粉體與行星式球磨機中的磨珠按照1:50~120的重量比混合,經球磨得到石墨烯摩爾結構薄膜;所述石墨烯摩爾結構薄膜通過片片平行接觸,且片層之間旋轉角度在15~45o之間,呈現(xiàn)非公度接觸狀態(tài)以產生摩爾條紋;然后將該石墨烯摩爾結構薄膜與含氫碳薄膜組成摩擦配伍對,于不同環(huán)境氛圍,在1~20N載荷、0.05~30cm/s速度范圍、0.28~3mm2接觸面積的條件下石墨烯摩爾結構薄膜內sp3鍵合碳受摩擦熱和剪切應力的作用,發(fā)生層間朝面內化學鍵轉向,產生層內無缺陷超滑石墨烯涂層。
所述石墨烯粉體的片徑在20~500nm之間,片層內石墨烯層數(shù)少于15,片表面無明顯褶皺且光滑。
所述球磨條件是指石墨烯粉體的體積小于球磨罐容積的10%,轉速控制在50~600rpm之間,球磨時間為5~100h。
所述球磨過程中還加入溶劑。
所述溶劑包括但不限于乙醇、水、N,N-二甲基甲酰胺中的一種。
所述磨珠是指表面粗糙度為Ra3~5μm、球徑為1~20mm的鋼球、氧化鋁球、氧化鋯球、氮化硅球及碳化硅球中的一種。
所述不同環(huán)境氛圍包括氮氣、氬氣、真空以及不同濕度環(huán)境。
本發(fā)明與現(xiàn)有技術相比具有以下優(yōu)點:
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