[發(fā)明專利]圖像處理方法、裝置及電子設(shè)備

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202111346164.6
• 申請(qǐng)日: 2021-11-15
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN114067038A
• 公開(kāi)（公告）日: 2022-02-18
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 陳李勝;劉文鋒
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 廣州極飛科技股份有限公司
• 主分類號(hào): G06T15/00
• 分類號(hào): G06T15/00;G06T17/05;G06T19/00;G06T19/20;G06T3/40;G06T5/50
• 代理公司: 北京超凡宏宇專利代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 11463
• 代理人: 張欣欣

本申請(qǐng)實(shí)施例提供了一種圖像處理方法、裝置及電子設(shè)備，其中圖像處理方法包括：對(duì)初始圖像數(shù)據(jù)進(jìn)行切圖處理；基于最高級(jí)別瓦片集逐級(jí)進(jìn)行瓦片合并處理；對(duì)于各低級(jí)別瓦片集中各像素點(diǎn)，從像素點(diǎn)對(duì)應(yīng)的像素矩陣中確定一個(gè)目標(biāo)像素點(diǎn)，并將目標(biāo)像素點(diǎn)的高度值更新為像素點(diǎn)的高度值；其中，確定出的所有目標(biāo)像素點(diǎn)不同時(shí)為具備最大高度值的像素點(diǎn)。這樣，可以將初始圖像數(shù)據(jù)切片為不同分辨率的瓦片集，且低級(jí)別瓦片集中各像素點(diǎn)的高度值為根據(jù)對(duì)應(yīng)較高級(jí)瓦片集的像素矩陣中確定的目標(biāo)像素點(diǎn)的高度值，確定出的所有目標(biāo)像素點(diǎn)不同時(shí)為具備最大高度值的像素點(diǎn)，使得各級(jí)別瓦片集的像素點(diǎn)的高度值分布均勻，提高圖像渲染效果。

技術(shù)領(lǐng)域

本申請(qǐng)涉及圖像數(shù)據(jù)處理領(lǐng)域，尤其涉及一種圖像處理方法、裝置及電子設(shè)備。

背景技術(shù)

現(xiàn)有技術(shù)中圖像渲染需要依賴于切圖處理技術(shù)。例如，農(nóng)業(yè)種植物需要進(jìn)行上水作業(yè)，現(xiàn)有技術(shù)可借助計(jì)算機(jī)的圖形渲染能力，呈現(xiàn)需要上水的地塊的高低起伏情況，使用水淹渲染分析模擬地塊在不同的上水高度呈現(xiàn)的水淹效果?，F(xiàn)有水淹渲染分析技術(shù)中的地形瓦片是通過(guò)對(duì)原始的數(shù)字地表模型(Digital Surface Model，DSM)數(shù)據(jù)采用最大值、平均值、最近鄰、最小值等重采樣算法得到的。采用平均值、最近鄰、最小值等重采樣算法在進(jìn)行水淹渲染分析時(shí)，在不同的三維視角或三維相機(jī)高度下，會(huì)出現(xiàn)若隱若現(xiàn)的情況?，F(xiàn)有技術(shù)中的圖像切片存在的切片效果比較差的問(wèn)題。

發(fā)明內(nèi)容

為了解決上述技術(shù)問(wèn)題，本申請(qǐng)實(shí)施例提供了一種圖像處理方法、裝置及電子設(shè)備。

第一方面，本申請(qǐng)實(shí)施例提供了一種圖像處理方法，所述方法包括：

對(duì)初始圖像數(shù)據(jù)進(jìn)行切圖處理，得到分辨率最高的最高級(jí)別瓦片集，所述最高級(jí)別瓦片集中各瓦片的各像素點(diǎn)具備對(duì)應(yīng)的高度值；

基于所述最高級(jí)別瓦片集逐級(jí)進(jìn)行瓦片合并處理，得到分辨率不同的至少一個(gè)低級(jí)別瓦片集，其中，所述低級(jí)別瓦片集中不同像素點(diǎn)由相對(duì)較高級(jí)別的瓦片集中不同像素矩陣形成；

對(duì)于各低級(jí)別瓦片集中各像素點(diǎn)，從所述像素點(diǎn)對(duì)應(yīng)的像素矩陣中確定一個(gè)目標(biāo)像素點(diǎn)，并將所述目標(biāo)像素點(diǎn)的高度值更新為所述像素點(diǎn)的高度值；其中，確定出的所有目標(biāo)像素點(diǎn)不同時(shí)為具備最大高度值的像素點(diǎn)。

第二方面，本申請(qǐng)實(shí)施例提供了一種飛巡任務(wù)的生成方法，包括：

獲取目標(biāo)區(qū)域的瓦片集；其中，所述瓦片集基于權(quán)利要求1-9任一項(xiàng)所述的方法獲得；

根據(jù)所述目標(biāo)區(qū)域的瓦片集確定所述目標(biāo)區(qū)域中的感興趣區(qū)域；

根據(jù)所述感興趣區(qū)域生成飛巡任務(wù)。

第三方面，本申請(qǐng)實(shí)施例提供了一種圖像處理裝置，所述裝置包括：

第一處理模塊，用于對(duì)初始圖像數(shù)據(jù)進(jìn)行切圖處理，得到分辨率最高的最高級(jí)別瓦片集，所述最高級(jí)別瓦片集中各瓦片的各像素點(diǎn)具備對(duì)應(yīng)的高度值；

第二處理模塊，用于基于所述最高級(jí)別瓦片集逐級(jí)進(jìn)行瓦片合并處理，得到分辨率不同的至少一個(gè)低級(jí)別瓦片集，其中，所述低級(jí)別瓦片集中不同像素點(diǎn)由相對(duì)較高級(jí)別的瓦片集中不同像素矩陣形成；

確定模塊，用于對(duì)于各低級(jí)別瓦片集中各像素點(diǎn)，從所述像素點(diǎn)對(duì)應(yīng)的像素矩陣中確定一個(gè)目標(biāo)像素點(diǎn)，并將所述目標(biāo)像素點(diǎn)的高度值更新為所述像素點(diǎn)的高度值；其中，確定出的所有目標(biāo)像素點(diǎn)不同時(shí)為具備最大高度值的像素點(diǎn)。

第四方面，本申請(qǐng)實(shí)施例提供了一種飛巡任務(wù)的生成裝置，所述裝置包括：

獲取模塊，用于獲取目標(biāo)區(qū)域的瓦片集；其中，所述瓦片集基于第一方面所述的方法獲得；

確定模塊，用于根據(jù)所述目標(biāo)區(qū)域的瓦片集確定所述目標(biāo)區(qū)域中的感興趣區(qū)域；

生成模塊，根據(jù)所述感興趣區(qū)域生成飛巡任務(wù)。