[發明專利]顯示面板及其制作方法、移動終端在審
| 申請號: | 202111346119.0 | 申請日: | 2021-11-15 |
| 公開(公告)號: | CN114122144A | 公開(公告)日: | 2022-03-01 |
| 發明(設計)人: | 鄭帥;宋志偉;劉兆松;徐源竣 | 申請(專利權)人: | 深圳市華星光電半導體顯示技術有限公司 |
| 主分類號: | H01L29/786 | 分類號: | H01L29/786;H01L27/32;H01L21/336 |
| 代理公司: | 深圳紫藤知識產權代理有限公司 44570 | 代理人: | 李莎 |
| 地址: | 518132 廣東省深*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 顯示 面板 及其 制作方法 移動 終端 | ||
1.一種顯示面板,其特征在于,包括:
襯底;
有源層,設置于所述襯底上,所述有源層包括溝道部和位于所述溝道部兩側的導體部;以及
源漏極層,設置于所述有源層上,所述源漏極層包括源漏極,所述源漏極設置于所述導體部遠離所述襯底一側的表面上。
2.根據權利要求1所述的顯示面板,其特征在于,所述顯示面板還包括:
柵絕緣層,設置于所述有源層上,所述柵絕緣層覆蓋所述溝道部;
柵極層,設置于所述柵絕緣層上;
其中,所述柵極層在所述溝道部上的正投影位于所述溝道部內,所述溝道部在所述柵絕緣層上的正投影位于所述柵絕緣層內。
3.根據權利要求2所述的顯示面板,其特征在于,在所述顯示面板的俯視圖方向上,所述源漏極的面積小于所述導體部的面積,所述源漏極與所述柵絕緣層分離設置。
4.根據權利要求2所述的顯示面板,其特征在于,在所述顯示面板的俯視圖方向上,所述源漏極的面積和所述導體部的面積相等,所述源漏極與所述柵絕緣層具有重疊部分。
5.根據權利要求2所述的顯示面板,其特征在于,所述顯示面板還包括:
鈍化層,設置于所述襯底上,所述鈍化層覆蓋所述柵極層、所述源漏極層以及部分所述襯底;
端子層,設置于所述鈍化層上,所述端子層包括多個端子,多個所述端子通過第一過孔與所述源漏極電連接,所述第一過孔貫穿部分所述鈍化層。
6.根據權利要求5所述的顯示面板,其特征在于,所述顯示面板還包括:
遮光層,設置于所述襯底和所述有源層之間,所述有源層在所述遮光層上正投影位于所述遮光層內;
緩沖層,設置于所述遮光層與所述有源層之間,所述緩沖層覆蓋所述遮光層;
其中,部分所述端子通過第二過孔與所述遮光層電連接,所述第二過孔貫穿所述鈍化層以及部分所述緩沖層。
7.根據權利要求5所述的顯示面板,其特征在于,在所述顯示面板的俯視圖方向上,所述端子層和所述柵極層具有重疊部。
8.一種顯示面板的制作方法,其特征在于,包括:
在襯底依次形成有源材料層和源漏材料層;
利用多段式掩膜版對所述有源材料層和所述源漏材料層進行圖案化處理,以使所述有源材料層形成圖案化后的有源層,以及使所述源漏材料層形成包括源漏極的源漏極層;
對圖案化后的部分所述有源層進行導體化處理,以使與所述源漏極接觸的部分所述有源層形成導體部和位于相鄰所述導體部之間的溝道部。
9.根據權利要求8所述的顯示面板的制作方法,其特征在于,利用多段式掩膜版對所述有源材料層和所述源漏材料層進行圖案化處理的步驟,包括:
在所述有源材料層和所述源漏材料層上形成光阻層;
利用多段式掩膜版對所述光阻層圖案化處理,以使所述光阻層形成第一光阻圖案;
利用第一蝕刻工藝,對所述有源材料層和所述源漏材料層進行第一次圖案化處理,以使所述有源材料層形成所述有源層,以及使所述源漏材料層形成源漏中間層;
利用灰化工藝對所述第一光阻圖案進行處理,以使所述第一光阻圖案形成第二光阻圖案;
利用第二蝕刻工藝,對所述源漏中間層進行第二次圖案化處理,以及使所述源漏中間層形成包括源漏極的源漏極層。
10.一種移動終端,其特征在于,所述移動終端包括終端主體和如權利要求1至7任一項所述的顯示面板,所述終端主體和所述顯示面板組合為一體。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于深圳市華星光電半導體顯示技術有限公司,未經深圳市華星光電半導體顯示技術有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202111346119.0/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:一種基于視頻識別的火災監控系統和方法
- 下一篇:一種脫硫劑及其制備方法
- 同類專利
- 專利分類





