[發(fā)明專利]一種用于介觀尺度試樣力學(xué)性能測試的磁控濺射設(shè)備

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202111346115.2
• 申請日: 2021-11-15
• 公開（公告）號: CN114166590B
• 公開（公告）日: 2022-07-15
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 陳剛;王瀚;張鵬;朱強(qiáng);王傳杰
• 申請（專利權(quán)）人: 哈爾濱工業(yè)大學(xué)（威海）
• 主分類號: G01N1/28
• 分類號: G01N1/28;C23C14/35;C23C14/50;C23C14/04
• 代理公司: 威海恒譽潤達(dá)專利代理事務(wù)所(普通合伙) 37260
• 代理人: 曾基

1.一種用于介觀尺度試樣力學(xué)性能測試的磁控濺射設(shè)備，其設(shè)有反應(yīng)腔室（9）、翻轉(zhuǎn)驅(qū)動裝置（10），所述反應(yīng)腔室（9）內(nèi)的底部設(shè)置有靶材（15），位于所述靶材（15）的上方設(shè)置有承載夾持裝置（16），用以承載夾持被測試樣，所述承載夾持裝置（16）設(shè)置在所述反應(yīng)腔室（9）內(nèi)，其特征在于，所述翻轉(zhuǎn)驅(qū)動裝置（10）與傳動軸的一端相連接，所述傳動軸的另一端與所述承載夾持裝置（16）相連接；當(dāng)所述被測試樣的一面完成磁控濺射后，所述翻轉(zhuǎn)驅(qū)動裝置（10）通過驅(qū)動所述傳動軸帶動所述承載夾持裝置（16）轉(zhuǎn)動，使所述被測試樣的另一面朝向所述靶材（15），實現(xiàn)所述靶材（15）對所述被測試樣的另一面的磁控濺射；

所述承載夾持裝置（16）設(shè)有可拆卸連接的試樣濺射盤（29）和濺射盤卡盒（30）；

所述試樣濺射盤（29）設(shè)有中空框體（1）、試樣定位框（5）、一對金屬鍍膜成形板（2）和一對壓板（3）；所述試樣定位框（5）開設(shè)有用于放置所述被測試樣的放置通孔（51），所述放置通孔（51）與所述被測試樣的形狀、大小相匹配；所述試樣定位框（5）容置于所述中空框體（1）內(nèi)，所述試樣定位框（5）設(shè)置在一對所述金屬鍍膜成形板（2）之間，所述金屬鍍膜成形板（2）開設(shè)有呈陣列分布的第一通孔（21），所述第一通孔（21）為圓形孔，所述第一通孔（21）的孔徑為微米級；一對所述金屬鍍膜成形板（2）設(shè)置在一對所述壓板（3）之間，一對所述壓板（3）可拆卸的安裝在所述中空框體（1）的上下兩側(cè)；位于上下兩側(cè)的所述壓板（3）的板身分別壓在位于其臨近的所述金屬鍍膜成形板（2）上，使一對所述金屬鍍膜成形板（2）分別緊壓在所述被測試樣的測試部（41）的上下表面；所述壓板（3）開設(shè)有第二通孔（31），所述第二通孔（31）的大小大于所述第一通孔（21）的孔徑；緊貼在所述被測試樣的測試部（41）上的所述第一通孔（21）與所述第二通孔（31）相連通；

所述濺射盤卡盒（30）的左側(cè)開設(shè)有卡盒開口（34），所述濺射盤卡盒（30）的右側(cè)與所述傳動軸相連接，所述濺射盤卡盒（30）的上下兩側(cè)分別開設(shè)有第四通孔（35），所述第四通孔（35）的大小不小于所述第二通孔（31）；所述濺射盤卡盒（30）內(nèi)開設(shè)有容納腔（36），所述卡盒開口（34）與所述容納腔（36）相連通，所述試樣濺射盤（29）從所述卡盒開口（34）適配插入到所述容納腔（36）內(nèi)，此時所述第二通孔（31）與所述第四通孔（35）相連通。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于介觀尺度試樣力學(xué)性能測試的磁控濺射設(shè)備，其特征在于，所述反應(yīng)腔室（9）的頂部敞口，密封蓋板（17）將所述反應(yīng)腔室（9）的頂部密封，所述反應(yīng)腔室（9）與所述密封蓋板（17）可拆卸連接。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種用于介觀尺度試樣力學(xué)性能測試的磁控濺射設(shè)備，其特征在于，所述密封蓋板（17）上安裝設(shè)有自轉(zhuǎn)驅(qū)動裝置（18），所述自轉(zhuǎn)驅(qū)動裝置（18）的動力輸出軸向下穿過所述密封蓋板（17）與構(gòu)件承載轉(zhuǎn)盤（19）相連接，所述構(gòu)件承載轉(zhuǎn)盤（19）設(shè)置在所述反應(yīng)腔室（9）內(nèi)，在所述自轉(zhuǎn)驅(qū)動裝置（18）的動力輸出下，所述構(gòu)件承載轉(zhuǎn)盤（19）繞其中心自轉(zhuǎn)；所述翻轉(zhuǎn)驅(qū)動裝置（10）安裝在所述構(gòu)件承載轉(zhuǎn)盤（19）上，設(shè)置所述翻轉(zhuǎn)驅(qū)動裝置（10）、所述傳動軸、所述承載夾持裝置（16）為一組磁控濺射單元，所述磁控濺射單元的數(shù)量為多組，所述磁控濺射單元繞所述構(gòu)件承載轉(zhuǎn)盤（19）的中心呈環(huán)形陣列式分布。